[实用新型]一种镀膜LOW-E玻璃的除膜设备有效

专利信息
申请号: 201921827829.3 申请日: 2019-10-29
公开(公告)号: CN210849660U 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 林嘉佑 申请(专利权)人: 台玻太仓工程玻璃有限公司
主分类号: B24B27/033 分类号: B24B27/033;B08B1/00;B08B1/04;F26B21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215434 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 low 玻璃 设备
【说明书】:

实用新型提供一种镀膜LOW‑E玻璃的除膜设备,含具有马达和若干输送辊的输送机,输送机上依次布置有:研磨清洗段,研磨清洗段包括若干研磨圆盘刷,研磨圆盘刷的刷毛面与水平面平行,研磨圆盘刷连有驱动其转动的第一电机;抛光清洗段,抛光清洗段包括若干抛光圆盘刷,抛光圆盘刷的刷毛面与水平面平行,抛光圆盘刷连有驱动其绕竖直方向转动的第二电机;氧化铈桶,氧化铈桶管路连有向研磨清洗段和抛光清洗段喷洒氧化铈溶液的若干喷头;清洁清洗段,清洁清洗段包括设置于相邻两个输送辊之间的清洁辊,清洁辊的外圆周面密布清洁刷毛;烘干段,烘干段包括设置于清洁辊远离抛光清洗段一侧的风机。本实用新型能有效去除镀膜LOW‑E玻璃的膜层,实现返修再利用。

技术领域

本实用新型涉及玻璃磨边设备及配件技术领域,具体涉及一种镀膜LOW-E玻璃的除膜设备。

背景技术

镀膜LOW-E玻璃是在洁净的玻璃基片上镀几层到十几层纳米级厚度金属及其化合物的节能产品。在镀膜生产过程中,经常出现不良品现象。例如:基片清洗不干净,LOW-E膜层中残留污迹物质;因LOW-E膜层保护层较薄或溅射不均匀等造成膜层氧化;基片清洗不干净或溅射设备真空度不足而导致的LOW-E玻璃膜层脱膜;因溅射物掉落在玻璃上引起的针孔不良等;在生产过程中,各个色系调试的测试板,镀膜后没有重复使用。

以上不良板和调试的测试板,在镀膜后无法返修重复使用,现有技术通常直接抛弃,造成了严重的浪费。是故亟待改善。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种镀膜LOW-E玻璃的除膜设备,能有效去除镀膜LOW-E玻璃的膜层,实现返修再利用。

为实现上述目的,本实用新型之一种镀膜LOW-E玻璃的除膜设备,包括具有马达和由马达驱动的若干输送辊的输送机,所述输送机上沿其输送方向依次布置有:

研磨清洗段,所述研磨清洗段包括位于输送机上方的若干研磨圆盘刷,所述研磨圆盘刷的刷毛面与水平面平行,所述研磨圆盘刷连接有驱动其绕竖直方向转动的第一电机;

抛光清洗段,所述抛光清洗段包括位于输送机上方的若干抛光圆盘刷,所述抛光圆盘刷的刷毛面与水平面平行,所述抛光圆盘刷连接有驱动其绕竖直方向转动的第二电机;

氧化铈桶,所述氧化铈桶管路连接有向研磨清洗段和抛光清洗段喷洒氧化铈溶液的若干喷头;

清洁清洗段,所述清洁清洗段包括设置于相邻两个输送辊之间的清洁辊,所述清洁辊的外圆周面密布清洁刷毛;

烘干段,所述烘干段包括设置于清洁辊远离抛光清洗段一侧的风机。

优选地,所述研磨圆盘刷的直径为130~150mm,所述研磨圆盘刷的刷毛采用直径为0.3~0.5mm,长为20~40mm的尼龙丝。

优选地,所述抛光圆盘刷的直径为130~150mm,所述抛光圆盘刷的刷毛采用直径为0.2~0.4mm,长为20~40mm的尼龙丝。

优选地,所述风机的输出端连接有倾斜设置且呈弧形的风道,所述风道与水平面间的夹角为0°~30°。

优选地,所述输送机的底部设有回流水箱。

优选地,所述回流水箱的底部设有排废口,所述排废口内设有滤网。

本实用新型与现有技术相比,其有益效果是:

设置研磨清洗段、抛光清洗段、氧化铈桶、清洁清洗段和烘干段,这样可以使已镀膜的LOW-E玻璃接受粘稠度较高氧化铈溶液氛围的研磨、抛光和清洗,最终得到烘干恢复为原片玻璃,实现镀膜LOW-E玻璃膜层的去除,以返修再利用,减少浪费,提升成品率;

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