[实用新型]一体三通陶瓷填充机构

权利要求书

1.一体三通陶瓷填充机构，主要包括：转动气缸（1）、推送气缸（2）、下压气缸（3）、三通阀（4）、填充泵（5）和清洗组件（6），其特征在于：所述的推送气缸（2）带动位移横板（21）前后位移，连接旋转杆（7）一端设置在位移横板（21）上，连接旋转杆（7）另一端贯穿三通阀（4）且连接于阀芯（8），阀芯（8）设置在阀座（81）内侧，阀座（81）和阀芯（8）设置在三通阀（4）内部，转动气缸（1）通过传动直齿条（11）带动连接旋转杆（7）转动，三通阀（4）内部中空且上方分别设有进料管（41）和填充泵（5），三通阀（4）下方设有出料管（42），下压气缸（3）通过下压横条（31）连接于若干填充泵（5），下压气缸（3）通过推杆（51）推动填充泵（5）内部的活塞（52）上下位移。

2.根据权利要求1所述的一体三通陶瓷填充机构，其特征在于：所述的转动气缸（1）一端固定在位移横板（21），转动气缸（1）另一端连接于传动直齿条（11），且带动传动直齿条（11）左右位移，传动直齿条（11）与连接旋转杆（7）上的齿轮相互啮合。

3.根据权利要求2所述的一体三通陶瓷填充机构，其特征在于：所述的位移横板（21）左右两端均设有限位固定座（22），限位固定座（22）均套在限位杆（23）上，位移横板（21）两侧均连接推送气缸（2），推送气缸（2）带动位移横板（21）沿着限位杆（23）来回位移。

4.根据权利要求2或3所述的一体三通陶瓷填充机构，其特征在于：所述的位移横板（21）上设置若干旋转固定座（24），连接旋转杆（7）贯穿旋转固定座（24），旋转固定座（24）与连接旋转杆（7）之间设有轴承。

5.根据权利要求4所述的一体三通陶瓷填充机构，其特征在于：所述的填充泵（5）内部与三通阀（4）内部相互贯通，阀座（81）上下均设有通孔，两通孔分别于进料管（41）和出料管（42）一一对应，阀芯（8）上设置有馈入口（801）和导出口（802），导出口（802）与两通孔相互对应。

6.根据权利要求1或3所述的一体三通陶瓷填充机构，其特征在于：所述的清洗组件（6）主要由清洗气缸（61）、酸碱液接头（62）和清洗横板（63）组成，清洗气缸（61）底部连接于清洗横板（63）左右两侧且带动清洗横板（63）上下位移，酸碱液接头（62）等距离布置在清洗横板（63）上。

7.根据权利要求6所述的一体三通陶瓷填充机构，其特征在于：所述的酸碱液接头（62）底部通过管道连接于酸碱液存储箱，酸碱液接头（62）外围套有缓冲弹簧，酸碱液接头（62）与出料管（42）位置一一对应，填充泵（5）的泵体外围设有清洗通孔（53）。