[实用新型]光源系统有效
申请号: | 201921818543.9 | 申请日: | 2019-10-24 |
公开(公告)号: | CN211554499U | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 张权;胡军楚 | 申请(专利权)人: | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李庆波 |
地址: | 518055 广东省深圳市南山区西丽街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 系统 | ||
本实用新型公开了光源系统,其特征在于,所述光源系统包括:发光阵列;收集透镜,用于对所述发光阵列出射的光束进行收集;光整形装置,设置于所述收集透镜的出射光光路上,所述光整形装置包括用于第一面和与第一面相背的第二面,所述第一面包括多个用于对入射光进行整形的第一表面结构和第二表面结构,其中所述第一表面结构和第二表面结构具有不同曲率;聚光系统,所述聚光系统用于对所述光整形装置出射的光束收集并投射于目标平面。本实用新型的光整形装置包括曲率不同的第一表面结构与第二表面结构,从而使得光束进行不同的角度整形,以使得在目标平面上形成光斑时,光斑的中心亮度大于边缘亮度。以适应不同的应用场合。
技术领域
本实用新型涉及匀光领域,特别涉及一种光源系统。
背景技术
目前大功率LED在舞台灯的应用非常广泛,但是现有技术中,对 LED芯片发出的光经过双层复眼透镜进行均匀化后,投射到目标平面上的光斑具有很好均匀度,且由于双层复眼透镜的亮度牺牲,易导致光斑的中心亮度不突出,限制了中心亮度要求较高的应用场合的使用。
实用新型内容
本实用新型提供一种光源系统,以解决现有技术中光斑中心亮度不突出的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供 1、一种光源系统,其特征在于,所述光源系统包括:
发光阵列;
收集透镜,用于对所述发光阵列出射的光束进行收集;
光整形装置,设置于所述收集透镜的出射光光路上,所述光整形装置包括用于第一面和与第一面相背的第二面,所述第一面包括多个用于对入射光进行整形的第一表面结构和第二表面结构,其中所述第一表面结构和第二表面结构具有不同曲率;
聚光系统,所述聚光系统用于对所述光整形装置出射的光束收集并投射于目标平面。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第一表面结构为曲面结构,以使得经所示第一表面结构出射光具有不同的发散角。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第二表面结构为平面结构。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第二表面结构包括多个子区域,其中所述多个子区域中设置曲率与第一表面结构不同的第二曲面结构。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第一面包括多个等间隔设置的第一表面结构。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第一面包括多个曲率不同的第一表面结构。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第一表面结构设置扩散膜,所述第二表面结构为平面结构。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第一表面结构对应所述第二面的投影表面设置有扩散膜。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述第一表面结构在所述第一面上的正投影为圆形、规则多边形或者不规则多边形。
根据本实用新型提供的一实施方式,所述收集透镜包括多个第一透镜器件,所述多个第一透镜器件分别一一与所述多个发光器件对应。
本实用新型的有益效果是:区别于现有技术,本实用新型通过发光阵列发出多光束,并通过收集透镜收集后,入射到光整形装置上,由于光整形装置包括曲率不同的第一表面结构与第二表面结构,从而使得光束进行不同的角度整形,以使得在目标平面上形成光斑时,光斑的中心亮度大于边缘亮度。以适应不同的应用场合。
附图说明
图1是本实用新型提供的光源系统的第一实施例结构示意图;
图2是光束入射与出射本实用新型提供光整形装置及一实施例的侧视结构示意图;
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