[实用新型]X射线源和X射线成像设备

权利要求书

1.一种X射线源(100)，包括：

壳体(101)，在壳体内限定真空空间；

电子束产生装置(110)，该电子束产生装置设置在壳体的真空空间内并被配置成发射电子束(102)；

第一聚焦装置(120)，该第一聚焦装置设置在壳体的真空空间内，用于接收并聚焦来自电子束产生装置的电子束；

阳极靶(130)，该阳极靶设置在壳体的真空空间内，面向第一聚焦装置并被配置成在来自第一聚焦装置的聚焦的电子束的撞击下产生X射线，

其特征在于，

该第一聚焦装置被配置成以可调的第一电位将所接收的电子束聚焦到阳极靶上，使得撞击阳极靶的聚焦的电子束在阳极靶上产生的束斑(103)的尺寸是能够调整的。

2.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，该X射线源还包括：

第二聚焦装置(150)，该第二聚焦装置设置在壳体的真空空间内，并位于电子束产生装置和第一聚焦装置之间，以对来自电子束产生装置的电子束进行初始聚焦，使得被初始聚焦后的电子束到达第一聚焦装置并由第一聚焦装置进一步聚焦。

3.根据权利要求2所述的X射线源，其特征在于，第二聚焦装置被配置成以固定的零电位对来自电子束产生装置的电子束进行初始聚焦。

4.根据权利要求2所述的X射线源，其特征在于，第二聚焦装置被配置成以可调的第二电位对来自电子束产生装置的电子束进行初始聚焦。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的X射线源，其特征在于，阳极靶的工作电压在80kV～300kV的范围内，所述可调的第一电位在4kV～10kV的范围内。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的X射线源，其特征在于，该X射线源还包括：

控制栅网(140)，该控制栅网设置在壳体的真空空间内，并被配置成控制电子束产生装置的电子束的发射和截止。

7.根据权利要求6所述的X射线源，其特征在于，控制栅网进一步被配置成调节电子束产生装置发射的电子束的电子量。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的X射线源，其特征在于，该X射线源还包括：

冷却装置(131)，该冷却装置被构造成对阳极靶进行冷却。

9.根据权利要求1-4中任一项所述的X射线源，其特征在于，该X射线源包括分布式X射线源，

该分布式X射线源包括设置在壳体的真空空间内的多个所述电子束产生装置和多个所述第一聚焦装置。

10.根据权利要求9所述的X射线源，其特征在于，每个第一聚焦装置以相对于其他第一聚焦装置独立可调的电位将来自对应的电子束产生装置的电子束聚焦到阳极靶上。

11.一种X射线成像设备，其特征在于，该X射线成像设备包括根据权利要求1-10中任一项所述的X射线源。