[实用新型]一种用于半导体的集成式纯水装置有效
| 申请号: | 201921801496.7 | 申请日: | 2019-10-25 |
| 公开(公告)号: | CN211056870U | 公开(公告)日: | 2020-07-21 |
| 发明(设计)人: | 戴梅红;张平;陈以超;肖强;严操红 | 申请(专利权)人: | 江苏源邦环境科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06;C02F103/04 |
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| 地址: | 214000 江苏省无锡市滨*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 半导体 集成 纯水 装置 | ||
本实用新型属于水处理技术领域,具体涉及一种用于半导体的集成式纯水装置。该用于半导体的集成式纯水装置,包括纯水进水管路、纯水浓水回水管路、去离子水设备和纯水箱,所述纯水进水管路并联有多组第一反渗透装置,并通过纯水产水管路与多组去离子水设备连通,各第一反渗透装置与纯水产水管路之间并联有第二反渗透装置,第二反渗透装置通过纯水浓水回水管路与第一过滤水槽连通,所述各去离子水设备上分别连通有EDI产水管路和EDI浓水回水管路,各EDI产水管路分别与纯水箱连通,各EDI浓水回水管路分别与第二过滤水槽连通。其有益效果是:结构简单,管路布设简单,回收率高。
技术领域
本实用新型属于水处理技术领域,具体涉及一种用于半导体的集成式纯水装置。
背景技术
半导体、光伏产业近年来发展十分迅速,但是这个行业也是高耗能、高污染行业,生产中会产生大量的工业废水,其中有大量的半导体废水中含有较高浓度的H2O2以及一定量的氨、氮,使得废水中COD(是以化学方法测量水样中需要被氧化的还原性物质的量)值增大,所以必须对这部分废水进行回收处理。
实用新型内容
本实用新型为了弥补现有技术的缺陷,提供了一种用于半导体的集成式纯水装置。
本实用新型是通过如下技术方案实现的:
一种用于半导体的集成式纯水装置,包括纯水进水管路、纯水浓水回水管路、去离子水设备和纯水箱,所述纯水进水管路并联有多组第一反渗透装置,并通过纯水产水管路与多组去离子水设备连通,各第一反渗透装置与纯水产水管路之间并联有第二反渗透装置,第二反渗透装置通过纯水浓水回水管路与第一过滤水槽连通,所述各去离子水设备上分别连通有EDI产水管路和EDI浓水回水管路,各EDI产水管路分别与纯水箱连通,各EDI浓水回水管路分别与第二过滤水槽连通。
进一步,所述纯水进水管路与各第一反渗透装置连通的管路上设有水泵。
进一步,所述EDI产水管路与EDI浓水回水管路之间通过管路连通,且连通的管路上设有止回阀。
进一步,所述纯水产水管路上设有排水管路,排水管路经过EDI浓水回水管路与第二过滤水槽连通。
本实用新型的有益效果是:结构简单,管路布设简单,达标的纯水直接通过去离子水设备处理,并通过纯水箱进行储存,纯水浓水和未达标的纯水分别通过纯水浓水回水管路和排水管路通过第一过滤水槽和第二过滤水槽过滤回收,回收率高。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
附图1为本实用新型的结构示意图。
图中,1纯水进水管路,2水泵,3第一反渗透装置,4第二反渗透装置,5纯水浓水回水管路,6第一过滤水槽,7纯水产水管路,8排水管路,9去离子水设备,10 EDI产水管路,11EDI浓水回水管路,12纯水箱,13第二过滤水槽。
具体实施方式
附图1为本实用新型的一种具体实施例。该实用新型一种用于半导体的集成式纯水装置,包括纯水进水管路1、纯水浓水回水管路5、去离子水设备9和纯水箱12,所述纯水进水管路1并联有多组第一反渗透装置3,并通过纯水产水管路7与多组去离子水设备9连通,各第一反渗透装置3与纯水产水管路7之间并联有第二反渗透装置4,第二反渗透装置4通过纯水浓水回水管路5与第一过滤水槽6连通,所述各去离子水设备9上分别连通有EDI产水管路10和EDI浓水回水管路11,各EDI产水管路10分别与纯水箱12连通,各EDI浓水回水管路11分别与第二过滤水槽13连通。
进一步,所述纯水进水管路1与各第一反渗透装置3连通的管路上设有水泵2。
进一步,所述EDI产水管路10与EDI浓水回水管路11之间通过管路连通,且连通的管路上设有止回阀。
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