[实用新型]一种倒装LED芯片有效

专利信息
申请号: 201921780647.5 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN210805815U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 崔永进;庄家铭 申请(专利权)人: 佛山市国星半导体技术有限公司
主分类号: H01L33/46 分类号: H01L33/46;H01L33/02;H01L33/14
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 胡枫;李素兰
地址: 528200 广东省佛山市南海区狮*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 倒装 led 芯片
【说明书】:

本实用新型公开了一种倒装LED芯片,所述芯片包括外延层、透明导电层、反射层、阻挡层、第一钝化层、钝化支撑层、连接电极和焊接电极,所述钝化支撑层结合在连接电极和第一钝化层上,所述焊接电极结合在钝化支撑层上并与连接电极导电连接;所述钝化支撑层由SiO2、Al2O3和SiNx中的一种制成,厚度为120~170μm,所述钝化支撑层用于支撑芯片并起绝缘的作用;所述外延层发出的光经过反射层反射后,直接从外延层的背面出射。本实用新型的倒装LED芯片,减少了衬底、AlN层、缓冲层等大量体材料的吸光影响,光线直接从外延层的背面出射,出光效率可以提高3%以上。

技术领域

本实用新型涉及发光二极管技术领域,尤其涉及一种倒装LED芯片。

背景技术

倒装LED芯片是近几年新型态的LED,主要功能在于无封装制程,大幅节省生产效能,可应用在大电流上,更可以实现超微小mini型态的LED。

参见图1,传统的倒装LED芯片包括依次设于衬底10上的AlN层11、缓冲层12、外延层20、透明导电层30、反射层40、阻挡层50、钝化层60、第一电极71和第二电极72,传统倒装LED芯片的出光面为衬底一侧,现有的衬底一般为蓝宝石衬底,外延层材料为氮化镓材料,为了减少蓝宝石衬底和外延层之间的晶格失配,在形成外延层之前,需要在蓝宝石衬底上形成AlN层、缓冲层等结构,上述结构统称为大量体材料,这些大量体材料会吸收外延层发出的光,从而降低芯片的出光效率。

此外,现有的LED背光显示器,由多颗倒装LED芯片拼接而成,由于倒装 LED芯片的出光面集中在衬底一侧出射,应倒装LED芯片,背光显示器若要出光均匀,相邻LED芯片之间的距离要足够小,这就需要大量的倒装LED芯片来进行组装,成本较高。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种倒装LED芯片,芯片出光效率高。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种倒装LED芯片,包括:外延层、透明导电层、反射层、阻挡层、第一钝化层、钝化支撑层、连接电极和焊接电极,所述透明导电层结合在外延层的正面上,所述反射层结合在透明导电层上,所述阻挡层结合在反射层上,所述第一钝化层结合在阻挡层上,所述连接电极结合在第一钝化层上并与外延层导电连接,所述钝化支撑层结合在连接电极和第一钝化层上,所述焊接电极结合在钝化支撑层上并与连接电极导电连接,所述钝化支撑层用于支撑芯片并起绝缘的作用,所述外延层发出的光经过反射层反射后,直接从外延层的背面出射。

作为上述方案的改进,所述钝化支撑层由SiO2、Al2O3和SiNx中的一种制成。

作为上述方案的改进,所述钝化支撑层的厚度为120~170μm。

作为上述方案的改进,所述外延层包括第一半导体层、有源层和第二半导体层,所述透明导电层设置在第二半导体层和反射层之间,有源层的出光从第一半导体层的背面出射。

作为上述方案的改进,所述第一半导体层的背面设有粗化结构,其中,粗化深度为0.8~1.2μm。

作为上述方案的改进,所述连接电极包括第一连接电极和第二连接电极,其中,第一连接电极贯穿第一钝化层、阻挡层、金属反射层和透明导电层,并与第一半导体层连接;所述第二连接电极贯穿第一钝化层和阻挡层,并与金属反射层连接。

作为上述方案的改进,所述第一钝化层由SiO2、Al2O3或SiNx制成。

作为上述方案的改进,所述第一钝化层的厚度为6000~10000埃。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市国星半导体技术有限公司,未经佛山市国星半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921780647.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top