[实用新型]一种精准控制胶层厚度和均匀度的装置

说明书

本实用新型涉及光学组件制造技术领域，公开了一种精准控制胶层厚度和均匀度的装置，包括底座固定块、大片压制底座和压块，所述底座固定块上开设有槽口向上的容纳槽，所述大片压制底座与容纳槽相匹配且设于容纳槽内，大片压制底座上表面设有用于放置待压制胶层的大片的放置凸台，所述压块包括压制部和套接部，所述压制部设于放置凸台上方且其下表面连接有用于压制大片的压制凸台，所述套接部套设于底座固定块和大片压制底座外侧且与压制部连接。本实用新型能够对大片的胶层进行均匀压制，减小了胶层的厚度，从而减小了大片使用时所占用的安装空间，满足了产品日益小型化的发展趋势和应用需求。

技术领域

本实用新型涉及光学组件制造技术领域，尤其涉及一种精准控制胶层厚度和均匀度的装置。

背景技术

光隔离器广泛应用在光通讯及工业激光领域中，大片是光隔离器的重要组成部分，通常是由法拉第旋转片及设置在其两侧面的偏振片组成，法拉第旋转片和偏振片之间通过填充胶层进行固定，大片加工时先将粘结好然后通过压制工装压制从而达到控制胶层厚度及使胶层均匀分布的目的。现有的压制工装只能将大片的胶层厚度控制在15μm左右，压制出来的大片厚度较大，安装时占用较多空间，不能满足产品日益小型化的发展趋势和应用需求，而且胶层均匀分布不均匀对光路有影响，影响产品性能。

实用新型内容

为解决上述现有的技术问题，本实用新型提供了一种精准控制胶层厚度和均匀度的装置。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种精准控制胶层厚度和均匀度的装置，包括底座固定块、大片压制底座和压块，所述底座固定块上开设有槽口向上的容纳槽，所述大片压制底座与容纳槽相匹配且设于容纳槽内，大片压制底座上表面设有用于放置待压制胶层的大片的放置凸台，所述压块包括压制部和套接部，所述压制部设于放置凸台上方且其下表面连接有用于压制大片的压制凸台，所述套接部套设于底座固定块和大片压制底座外侧且与压制部连接。

优选地，所述底座固定块包括支撑部和固定部，所述固定部连接在支撑部上，所述容纳槽设于固定部上，所述套接部套设于固定部上。

优选地，所述大片压制底座的一侧连接有手柄。

优选地，所述大片压制底座的一侧设有螺纹孔，所述手柄的一端部设有与螺纹孔相匹配的螺纹，手柄通过螺纹与大片压制底座的螺纹孔可拆卸连接。

优选地，手柄上设有防滑部。

优选地，所述底座支撑块的固定部、压块的套接部上均设有用于手柄穿过的手柄避空位。

本实用新型能够对大片的胶层进行均匀压制，减小了胶层的厚度，从而减小了大片使用时所占用的安装空间，满足了产品日益小型化的发展趋势和应用需求。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型中底座固定块的结构示意图。

图3是本实用新型中底座固定块的主视图。

图4是本实用新型中底座固定块的俯视图。

图5是本实用新型中大片压制底座的结构示意图。

图6是本实用新型中手柄的结构示意图。

图7是本实用新型中大片压制底座和手柄连接的结构示意图。

图8是本实用新型中压块的结构示意图。

图9是本实用新型中压块的主视图。

图10是图9的A-A向剖视图。

图中：1底座固定块、2大片压制底座、3压块、4容纳槽、5放置凸台、6大片、7压制部、8套接部、9支撑部、10固定部、11螺纹孔、12手柄、13手柄避空位、14压制凸台。