[实用新型]超声波清洗系统以及组织处理机

权利要求书

1.一种超声波清洗系统，包括：

组织处理机，所述组织处理机具有用于接收试剂以处理组织样本的工作室；

超声波发生器，用于产生超声波信号，对所述工作室进行清洗处理；

温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及

控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或第二温度控制所述超声波发生器的操作。

2.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述温度传感器模块包括第一温度传感器模块，所述第一温度传感器模块设置在所述超声波发生器处，用于检测所述第一温度。

3.根据权利要求2所述的超声波清洗系统，其中当所述第一温度等于或高于第一阈值的时候，所述控制单元降低所述超声波发生器的振荡频率。

4.根据权利要求3所述的超声波清洗系统，进一步包括超声波发生器驱动单元，所述超声波发生器驱动单元连接在所述控制单元与所述超声波发生器之间，

其中，当所述第一温度等于或高于比所述第一阈值高的第二阈值时，所述控制单元控制所述超声波发生器暂停所述清洗处理，并控制所述超声波发生器驱动单元将所述超声波发生器从第一位置移动至与所述工作室分离开一段距离的第二位置，以及

当所述第一温度降低至低于所述第二阈值时，所述控制单元控制所述超声波发生器驱动单元将所述超声波发生器从所述第二位置移动回所述第一位置，并控制所述超声波发生器继续所述清洗处理。

5.根据权利要求2所述的超声波清洗系统，其中所述温度传感器模块进一步包括第二温度传感器，所述第二温度传感器设置在所述工作室的接收所述试剂的入口处或设置在所述工作室的内侧壁上，用于检测所述第二温度。

6.根据权利要求5所述的超声波清洗系统，其中所述第二温度传感器模块安装在所述工作室的内侧壁中形成的安装孔内。

7.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述温度传感器模块被形成为封闭的模块单元。

8.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述组织处理机进一步包括用于对所述工作室内的试剂进行加热的加热装置，

所述控制单元根据所述第一温度或第二温度，控制所述加热装置的发热功率，

其中，当所述第一温度等于或高于第三阈值的时候，所述控制单元降低所述加热装置的发热功率，

其中，当所述第二温度低于第四阈值的时候，所述控制单元提高所述加热装置的发热功率。

9.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述控制单元根据不同的组织样本控制所述超声波发生器的振荡频率，以将所述振荡频率调节至适应所述组织样本。

10.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述超声波发生器设置在所述工作室的外侧壁上，

其中在所述超声波发生器与所述工作室的外侧壁之间设置有隔热层。

11.一种组织处理机，包括：

工作室，用于接收试剂以处理组织样本；

超声波发生器，用于产生超声波信号，对所述工作室进行清洗处理；

温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及

控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或所述第二温度控制所述超声波发生器的操作。

12.根据权利要求11所述的组织处理机，其中所述温度传感器模块包括第一温度传感器模块，所述第一温度传感器模块设置在所述超声波发生器处，用于检测所述第一温度。