[实用新型]一种用于处理放射性废水的吸附装置有效

专利信息
申请号: 201921772445.6 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN210777870U 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 竹文坤;何嵘;段涛;杨帆;陈涛;李显寅;王蓉;刘波;周露 申请(专利权)人: 西南科技大学
主分类号: G21F9/12 分类号: G21F9/12
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 张忠庆
地址: 621010 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 处理 放射性 废水 吸附 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种用于处理放射性废水的吸附装置,包括箱体,其上表面设置有密封盖;废水进口、过滤网和布液管道;第一吸附柱和第二吸附柱;废水出口,其通过管道与箱体外部的废水储存装置连通,废水出口与废水储存装置之间设置有阀门;支架,其结构包括:提手,其位于支架上端;上端圆环,其位于环形挡块Ⅰ的下方,下端圆环,其位于环形挡块Ⅱ的下方;底座,其位于支架下端;第一吸附柱和第二吸附柱竖直设置于支架中;用于提供光照的LED灯,其安装箱体内部且位于第一吸附柱、第二吸附柱两侧,且LED灯外接电源;本装置占地空间小,结构简单,安装拆卸简单,对放射性废水的降解吸附效果显著。

技术领域

本实用新型属于放射性废水处理技术领域,更具体地说,本实用新型涉及一种用于处理放射性废水的吸附装置。

背景技术

在核电站、应用放射性同位素研究所、医院、工厂等排出的放射性废水中主要含有各种有机物和放射性的重金属元素,因此要对放射性废水中的有机物和放射性重金属元素进行处理;放射性废水处理的方法主要有:化学沉淀、离子吸附、电渗析、膜处理技术、蒸发,其中离子吸附法较常用而且成本低廉。

现有的放射性废水的吸附装置主要用于核电站、工厂等场合,吸附装置庞大、结构复杂;在研究处理放射性废水的科研领域,比如在医院和研究院的放射性废水处理装置中,需要用到小型的放射性废水处理吸附设备,但是现有技术中小型化的放射性废水处理吸附装置应用很少,而且结构不完善,对放射性废水的降解吸附效果不理想,装置拆卸清洗操作复杂,非常不便于操作和推广。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷,并提供至少后面将说明的优点。

为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点,提供了一种用于处理放射性废水的吸附装置,包括:

箱体,其为铅质外壳;所述箱体上表面设置有密封盖;

废水进口,其位于所述箱体上表面的密封盖上;

用于除去放射性废水中大颗粒杂质的过滤网,其安装在废水进口下端;用于使放射性废水均匀向下流动的布液管道,位于所述过滤网下端,且布液管道内竖直设置有多个布液孔;

第一吸附柱,其与所述布液管道连接,且其内部设置有第一填充层,所述第一吸附柱外壁上端设置有环形挡块Ⅰ,其与第一吸附柱外壁呈阶梯型结构;

第二吸附柱,其与第一吸附柱通过中间管道连接,所述第二吸附柱内设置有第二填充层,第二吸附柱外壁上端设置有环形挡块Ⅱ,其与第二吸附柱外壁呈阶梯型结构;所述第一吸附柱和第二吸附柱均为透明管;

废水出口,其通过管道与箱体外部的废水储存装置连通,废水出口与废水储存装置之间设置有阀门;

支架,其结构包括:提手,其位于支架上端;上端圆环,其位于所述环形挡块Ⅰ的下方,下端圆环,其位于所述环形挡块Ⅱ的下方;底座,其位于支架下端;所述第一吸附柱和第二吸附柱竖直设置于所述支架中。

用于提供光照的LED灯,其安装所述箱体内部且位于所述第一吸附柱、第二吸附柱两侧,且所述LED灯外接电源。

优选的是,其中,所述第一填充层为碳纳米管填充层,第二填充层为氧化石墨烯填充层。

优选的是,其中,所述支架的上端圆环与下端圆环之间,以及下端圆环与底座之间由两根竖直杆连接。

优选的是,其中,所述箱体内壁设置有保温层。

优选的是,其中,所述密封盖与箱体之间设置有密封圈。

优选的是,其中,所述支架包括上端支架和下端支架,上端支架与下端支架的连接处设置有连接机构,上端支架与下端支架通过螺栓连接固定。

优选的是,其中,所述废水进口与布液管道为螺纹连接。

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