[实用新型]一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置

权利要求书

1.一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）的顶部固定安装有炉体（2）和位于炉体（2）一侧的支撑架（18），炉体（2）的内部设置有温场平衡机构，温场平衡机构由侧反射屏（3）、固定盘（4）、下反射屏（5）、耐高温保温层（8）和发热体（17）组成，固定盘（4）的中部设置有钨棒（6），钨棒（6）的顶端依次贯穿固定盘（4）、下反射屏（5）和发热体（17）并延伸至发热体（17）的内部且放置有坩埚（7），坩埚（7）外表面的顶部设置有上反射屏（9），底座（1）的顶部设置有炉盖（11），炉盖（11）和底座（1）之间设置有若干个限位机构，限位机构由第一方孔（12）、第二方孔（13）、方块（14）、方杆（15）和弹簧（16）组成，第一方孔（12）开设在底座（1）上，第二方孔（13）开设在炉盖（11）的外侧，方块（14）设置在第二方孔（13）的内部，方杆（15）的一端与方块（14）的一侧固定连接，方杆（15）的另一端贯穿炉盖（11）并延伸至第二方孔（13）的内部，弹簧（16）设置在方杆（15）的外表面，弹簧（16）位于第二方孔（13）的内壁，且弹簧（16）的两端分别与方块（14）和第二方孔（13）相连。

2.根据权利要求1所述的光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：所述炉盖（11）上设置有位于炉体（2）内部的电极（10），电极（10）的底部与发热体（17）的顶部接触，支撑架（18）的顶部设置有调节机构，调节机构由防护箱（19）、步进电机（20）、丝杆（21）、连接杆（22）和限位杆（23）组成。

3.根据权利要求1或2所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于，所述侧反射屏（3）设置在炉体（2）的内部，耐高温保温层（8）设置在侧反射屏（3）和炉体（2）之间，固定盘（4）、下反射屏（5）和发热体（17）从下到上依次设置在侧反射屏（3）的内部。

4.根据权利要求2所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于，所述防护箱（19）的底部与支撑架（18）的顶部固定连接，防护箱（19）的左侧面开设有通孔。

5.根据权利要求2所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于，所述步进电机（20）设置在支撑架（18）的内部，支撑架（18）的输出轴传过防护箱（19）并延伸至防护箱（19）的内部且与丝杆（21）固定连接，丝杆（21）的顶端通过轴承与防护箱（19）内腔的顶部相连。

6.根据权利要求2或4或5所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于，所述连接杆（22）的一端与丝杆（21）的外表面螺纹连接，连接杆（22）的另一端穿过通孔并延伸至防护箱（19）的左侧且连接有提拉杆（24），提拉杆（24）与炉体（2）的中心位置重合。

7.根据权利要求6所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于，所述防护箱（19）的内部固定安装有位于丝杆（21）左侧的限位杆（23），限位杆（23）的外表面与连接杆（22）的内壁穿插连接。