[实用新型]一种立式真空均温加热腔体

说明书

本实用新型公开了一种立式真空均温加热腔体，包括机架、立式腔体、真空泵、加热单元、均温控制组件和温控箱。立式腔体固设在机架上方，立式腔体的侧壁中部位置开设有真空抽气口，真空泵通过法兰与真空抽气口连接，加热单元固设在立式腔体的内部上部。均温控制组件包括散热风扇、温度传感器、第一温度监控装置和第二温度监控装置，散热风扇固定安装在立式腔体内部的顶部并朝下吹风，温度传感器设在加热单元的上方。第一温度监控装置和第二温度监控装置固设在立式腔体内部并分别位于真空抽气口的上方和下方。本实用新型能够使整个真空加热腔体有效地达到温度的均匀性，使预烤的晶片能够有效地达到去水汽的功效，在调节温度的同时实现精确控温。

技术领域

本实用新型属于真空加热腔体技术领域，特别涉及一种立式真空均温加热腔体。

背景技术

目前设计的真空立式加热腔体都是采用加热去除水气，在加热时，热会向腔体上方持续累积蓄热，造成腔体内部真空抽气口上部温度较高，腔体内部的上下温差过大，无法有好的均温性。对于均温性要求较高的晶片，如果水气没有去除完全，所沉积出来的金属薄膜会因水气的污染而产生高阻值而无法生产。为了能够有效地达到温度的均匀性，使腔体内预烤的晶片能够都有效地达到去水气的功效而不污染PVD腔体，需要设计一种具有很好均温性的真空加热腔体。

发明内容

针对上述问题，本实用新型的目的在于提供一种立式真空均温加热腔体，使得整个腔体内部能够有效地达到温度的均匀性，在调节腔体内部温度的同时实现精确控温。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种立式真空均温加热腔体，包括机架、立式腔体、真空泵、加热单元、均温控制组件和温控箱。所述的立式腔体固设在所述机架上方，立式腔体的侧壁中部位置开设有真空抽气口，所述真空泵通过法兰与所述真空抽气口连接，所述的加热单元固设在所述立式腔体的内部上部。所述的均温控制组件包括散热风扇、温度传感器、第一温度监控装置和第二温度监控装置。所述的散热风扇固定安装在立式腔体内部的顶部并朝下吹风，所述的温度传感器设在所述加热单元上，所述的第一温度监控装置和第二温度监控装置固设在立式腔体内部并分别位于所述真空抽气口的上方和下方。所述的加热单元、散热风扇、温度传感器、第一温度监控装置和第二温度监控装置分别与所述温控箱连接。

进一步地，所述的加热单元包括若干条加热带，若干条加热带分别固定在真空抽气口上方的立式腔体内壁上，每一条加热带上分别设置有一温度传感器。

进一步地，所述的第一温度监控装置和第二温度监控装置均包括环形固定盘和固定安装在所述环形固定盘上的光纤测温探头，所述的光纤测温探头与所述温控箱连接。

进一步地，所述的散热风扇为调速风扇。

本实用新型具有如下有益效果：提供一种立式均温加热腔体，通过设置均温控制组件和温控箱，当腔体内部真空抽气口的上下两侧的温差超过一定值时（如5℃），散热风扇自动调节转速，将顶部的热风由上往下吹以平衡腔体内部的上下温差，使预烤的晶片能够有效地达到去水气的功效而不污染PVD腔体。本实用新型的加热腔体能够在调节温度的同时实现精确控温。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为第一温度监控装置或第二温度监控装置的结构示意图。

图3为无散热风扇时第一温度监控装置和第二温度监控装置所测得的温度曲线。

图4为增加散热风扇后第一温度监控装置和第二温度监控装置所测得的温度曲线。

主要组件符号说明：1、机架；2、立式腔体；20、真空抽气口；3、真空泵；40、加热带；501、环形固定盘；502、光纤测温探头；51、散热风扇；52、温度传感器；53、第一温度监控装置；54、第二温度监控装置；6、温控箱。

具体实施方式