[实用新型]一种真空镀膜机用固定夹具有效
申请号: | 201921737912.1 | 申请日: | 2019-10-16 |
公开(公告)号: | CN210481511U | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 邹汉斌 | 申请(专利权)人: | 金华市金东区众鑫真空镀膜厂 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 321015 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 固定 夹具 | ||
本实用新型公开了一种真空镀膜机用固定夹具,包括固定条、镀膜工作台、步进电机、翻转板和伺服电机,镀膜工作台的上方以中心对称固定有立柱,立柱的内部通过轴承转动连接有转轴,转轴的内端皆固定有翻转板,翻转板内侧的后端固定连接有固定条,固定条前方的翻转板内侧滑动连接有活动条,固定条的后侧固定有步进电机,固定条的前侧和活动条的后侧从右至左依次开设有第一半圆槽、第二半圆槽、第三半圆槽和第四半圆槽,镀膜箱的一侧固定有伺服电机。本实用新型通过设置固定条、活动条、步进电机、翻转板、翻转板、伺服电机、转轴,解决了无法适用于不同类型的工件进行机械化夹持和无法将夹具机械翻转实现双面镀膜,人工操作繁琐的问题。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜机技术领域,具体为一种真空镀膜机用固定夹具。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。目前,在进行镀膜工件的真空镀膜前,将其放置在真空镀膜机中时,需要对其进行稳定的夹持,这边需要利用夹具进行夹持,而现有的夹具缺少机械化的夹持结构,且无法适用于各类不同形状的工件夹持使用,局限性较大,且对于需要进行双面镀膜的工件,需要人为翻转后再进行二次镀膜,非常的繁琐不便,浪费时间,工作效率低,因此有必要对现有技术进行改进,以解决上述问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机用固定夹具,以解决上述背景技术中提出的问题。
(二)技术方案
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种真空镀膜机用固定夹具,包括固定条、镀膜工作台、步进电机、翻转板和伺服电机,所述镀膜工作台的上方以中心对称固定有立柱,所述立柱的内部通过轴承转动连接有转轴,所述转轴的内端皆固定有翻转板,所述翻转板内侧的后端固定连接有固定条,所述固定条前方的翻转板内侧滑动连接有活动条,所述固定条的后侧固定有步进电机,所述固定条的前侧和活动条的后侧从右至左依次开设有第一半圆槽、第二半圆槽、第三半圆槽和第四半圆槽,所述镀膜工作台上方的外围边缘固定有镀膜箱,所述镀膜箱的一侧固定有伺服电机,所述镀膜工作台的前侧固定有控制器。
优选的,所述翻转板的内侧开设有滑槽,所述活动条的两端固定有滑块,所述活动条通过滑块与翻转板内侧的滑槽滑动连接。
优选的,所述第一半圆槽、第二半圆槽、第三半圆槽和第四半圆槽的内径依次增大,且固定条和活动条上的第一半圆槽、第二半圆槽、第三半圆槽和第四半圆槽相互对应。
优选的,所述步进电机的输出端穿过固定条固定有丝杆,所述活动条的内侧开设有螺纹槽,所述丝杆的前端与活动条内的螺纹槽活动连接。
优选的,所述伺服电机的输出端穿过镀膜箱通过联轴器与其中一个立柱内的转轴固定连接。
优选的,所述控制器的输出端与伺服电机和步进电机的输入端并联连接,且步进电机在固定条的后侧以中心对称设有两个,且两个步进电机互相串联连接。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
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