[实用新型]靶材真空喷涂生产设备

说明书

本实用新型属于靶材生产领域，具体为靶材真空喷涂生产设备，包括除尘机构，所述除尘机构包括除尘回收机、负压管、管道接头，所述除尘回收机前部设有所述负压管，所述负压管前端设有所述管道接头，所述除尘机构上设有用于喷涂的喷涂机构，所述喷涂机构上设有用于方便取放靶材的放置机构，所述喷涂机构包括导轨一、直线电机一、导轨二、直线电机二、喷箱，所述喷箱前部设有挡门，所述挡门上嵌入有观察窗，所述喷箱内侧顶部设有所述导轨一。本本实用新型采用喷涂机构，从而可以带动喷枪进行移动对靶材不同位置喷涂，这样可以节约空间并且节约制造材料的使用，从而降低成本，并且采用放置机构，从而方便取放靶材，使用方便。

技术领域

本实用新型属于靶材生产领域，具体是涉及靶材真空喷涂生产设备。

背景技术

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

现有的靶材真空喷涂生产设备，如公开号为CN104174544A的专利文件靶材真空喷涂生产设备所示，它采用带动靶材移动的方式对靶材不同位置进行喷涂，这样导致需要有较大的空间供靶材移动，从而提高了制造成本，并且没有设计可以方便取放靶材的措施，使用不方便。

需要说明的是，公开于本实用新型背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的问题，本实用新型采用喷涂机构，从而可以带动喷枪进行移动对靶材不同位置喷涂，这样可以节约空间并且节约制造材料的使用，从而降低成本，并且采用放置机构，从而方便取放靶材，使用方便。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

靶材真空喷涂生产设备，包括除尘机构，所述除尘机构包括除尘回收机、负压管、管道接头，所述除尘回收机前部设有所述负压管，所述负压管前端设有所述管道接头，其特征在于：所述除尘机构上设有用于喷涂的喷涂机构，所述喷涂机构上设有用于方便取放靶材的放置机构，所述喷涂机构包括导轨一、直线电机一、导轨二、直线电机二、喷箱，所述喷箱前部设有挡门，所述挡门上嵌入有观察窗，所述喷箱内侧顶部设有所述导轨一，所述导轨一上设有所述直线电机一，所述直线电机一底部呈水平通过螺钉连接有所述导轨二，所述导轨二上设有所述直线电机二，所述直线电机二底部设有喷枪支架，所述喷枪支架上安装有喷枪。

在上述技术方案的基础上，所述放置机构包括电机、丝杠、支耳、螺纹套、放置板，所述电机输出轴上设有所述丝杠，所述丝杠前部转动连接有所述支耳，所述支耳底端与所述喷箱焊接，所述丝杠上通过螺纹连接有所述螺纹套，所述螺纹套上端设有所述放置板，所述放置板底端靠近两侧焊接有滑块，所述滑块底部滑动连接有滑轨，所述滑轨底端与所述喷箱焊接。

在上述技术方案的基础上，所述导轨一和所述直线电机一数量均为2且左右对称分布，所述导轨一和所述直线电机一稳定支撑所述导轨二位移。

在上述技术方案的基础上，所述螺纹套与所述放置板靠近后部焊接，所述螺纹套位移后可以带动所述放置板伸出所述喷箱更多，从而更方便取放靶材。

在上述技术方案的基础上，所述放置机构包括放置板、滑块、滑轨、导轨三、直线电机三，所述导轨三上设有所述直线电机三，所述直线电机三顶部安装有所述放置板，所述放置板底端靠近两侧焊接有所述滑块，所述滑块底部滑动连接有所述滑轨，所述滑轨底端与所述喷箱焊接。