[实用新型]一种调节装置以及光谱仪

说明书

本申请提供一种中性衰减片、调节装置以及光谱仪，该中性衰减片包括：上表面及与所述上表面相背设置的下表面，中性衰减片设置有多个贯穿所述上表面及所述下表面的通孔。在本申请中，中性衰减片包括上表面及与上表面相背设置的下表面，且设置有多个贯穿上表面及下表面的通孔，在实验过程中，通过将中性衰减片放置于CCD的入光端，使得光束沿金属片上的通孔进入CCD中，减少了光通量，进而解决了CCD的饱和问题。

技术领域

本申请涉及光学领域，具体而言，涉及一种中性衰减片、调节装置以及光谱仪。

背景技术

CCD(Charge Coupled Device，电耦合器件)是灵敏度非常高的电子元器件，对于较强的光照会出现CCD饱和问题。在激光打靶实验中，透射光栅谱仪测量X光谱，经常出现了严重的饱和问题，以至于影响后续解谱问题，实验数据无法使用。目前只能采取减小接收立体角的方式来解决，即拉长CCD和光源的距离。减小接收立体角虽然能够解决强度过高饱和的问题，但是同时也会带来新的问题，主要包括两个方面。

其一是拉长CCD和光源的距离需要对光谱仪的结构进行大的改变，实际测量中如果需要改变，则十分困难。因为光谱仪的体积较大，长度较长，实验环境一般会受限，严重阻碍实验的进行。

其二是在实际测量中，经常出现的情况是不同实验条件产生的X光强度不一样，复杂的实验环境造成了复杂的测量环境，盲目对硬件进行改变并不能解决问题，实验效率极低。

实用新型内容

本申请实施例的目的在于提供一种中性衰减片、调节装置以及光谱仪，以改善上述“对强光进行实验时，CCD会出现严重的饱和问题。”

本实用新型是这样实现的：

第一方面，本申请实施例提供一种中性衰减片，包括：上表面及与所述上表面相背设置的下表面，所述中性衰减片设置有多个贯穿所述上表面及所述下表面的通孔。

本申请中的中性衰减片上设置有多个贯穿所述上表面及下表面的通孔。通过将本申请中的中性衰减片设置在CCD的入光端，使得在实验过程中，光束只能沿中性衰减片上的通孔进入CCD中，减少了光通量，进而解决了CCD的饱和问题。

结合上述第一方面提供的技术方案，在一些可能的实现方式中，所述中性衰减片为矩形，所述通孔呈矩阵排列。

在本申请中，贯穿于该中性衰减片上表面至下表面的通孔均匀的排列，且呈矩阵排列，使得通过中性衰减片的光束也是均匀排列的。

结合上述第一方面提供的技术方案，在一些可能的实现方式中，所述通孔的直径的取值范围为1～10微米。

第二方面，本申请实施例提供一种调节装置，所述调节装置设置在CCD 的入光端，所述调节装置用于放置如上述第一方面中的中性衰减片，所述调节装置包括固定板，所述固定板与所述CCD固定连接，所述固定板中心设置有第一进光孔，所述中性衰减片放置在所述固定板上。

结合上述第二方面提供的技术方案，在一些可能的实现方式中，所述调节装置还包括滑轨以及滑块，所述滑轨与所述固定板连接，所述滑块设置在所述滑轨上，并且可沿所述滑轨滑动，所述滑块中心设有第二进光孔；所述中性衰减片固定在所述滑块上，且所述中性衰减片遮挡住所述第二进光孔；当所述滑块滑动到所述固定板中心时，所述第一进光孔与所述第二进光孔重合。

在本申请中，将中性衰减片固定在滑块上，滑块可沿滑轨滑动。通过滑块的滑动可以调节中性衰减片的位置。可以节省实验人员的时间，避免实验人员在实验过程中反复拆装中性衰减片。

结合上述第二方面提供的技术方案，在一些可能的实现方式中，所述滑块上设置有卡槽，所述卡槽用于与所述中性衰减片卡合。

结合上述第二方面提供的技术方案，在一些可能的实现方式中，所述调节装置还包括驱动装置；所述驱动装置与所述滑块连接，所述驱动装置用于驱动所述滑块滑动。