[实用新型]一种消除气泡影响的避光流动比色皿

说明书

本实用新型公开了一种消除气泡影响的避光流动比色皿，包括比色皿本体，所述比色皿本体的侧壁上开设有通光孔，所述通光孔呈“操场跑道”形，且所述通光孔的尺寸为Φ2×4mm，所述通光孔的高度为15mm，所述通光孔的光程为10mm，所述比色皿本体的外体材质为铝，所述比色皿本体的腔体材质为JGS1。本实用新型通过将通光孔由原来的圆形改成类似“操场跑道”的不规则形状，这样当液体通过通光孔时，气泡上浮，集中在通光孔径的上半部分，光束从通光孔径的下半部分通过，避免了气泡对光束的干扰，确保检测的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及比色皿技术领域，尤其涉及一种消除气泡影响的避光流动比色皿。

背景技术

比色皿是一种用于光谱分析的装备仪器，一般为长方体，其底及两侧为磨毛玻璃，另两面为光学玻璃支撑的透光面，比色皿一般采用熔融一体、玻璃粉高温烧结和胶粘合而成。

现有的比色皿通常会在其侧壁上开设有通光孔来使光束可以透过比色皿，但是现有比色皿的通光孔为规则的圆形通光孔，当液体通过通光孔时，液体中的气泡会对光束造成一定的干扰，使检测具有不稳定性。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种消除气泡影响的避光流动比色皿，其通过将通光孔由原来的圆形改成类似“操场跑道”的不规则形状，这样当液体通过通光孔时，气泡上浮，集中在通光孔径的上半部分，光束从通光孔径的下半部分通过，避免了气泡对光束的干扰，确保检测的稳定性。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种消除气泡影响的避光流动比色皿，包括比色皿本体，所述比色皿本体的侧壁上开设有通光孔，所述通光孔呈“操场跑道”形，且所述通光孔的尺寸为Φ2×4mm，所述通光孔的高度为15mm，所述通光孔的光程为10mm，所述比色皿本体的外体材质为铝，所述比色皿本体的腔体材质为JGS1。

优选地，所述比色皿本体采用熔融一体的工艺制成，且接头内螺纹型号为M6。

优选地，所述比色皿本体机加工需清角或采用线割工艺。

优选地，所述比色皿本体的贴合面密封处理，耐有机溶剂和酸碱。

优选地，所述比色皿本体的接头密封面平整打磨处理。

优选地，所述比色皿本体内斜孔开槽需控制。

本实用新型具有以下有益效果：

通过将通光孔由原来的圆形改成类似“操场跑道”的不规则形状，这样当液体通过通光孔时，气泡上浮，集中在通光孔径的上半部分，光束从通光孔径的下半部分通过，避免了气泡对光束的干扰，确保检测的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种消除气泡影响的避光流动比色皿的结构示意图；

图2为传统的比色皿结构示意图。

图中：1比色皿本体、2通光孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。