[实用新型]一种清洗机构

权利要求书

1.一种清洗机构，用于对位于清洗工位的物件进行清洗，其特征在于，包括：

第一支架；

第二支架，与所述第一支架滑动连接；以及

喷嘴组件，设于所述第二支架上；

其中，当需要对所述物件进行清洗时，所述第二支架相对所述第一支架移动，以带动所述喷嘴组件到达所述清洗工位；在对所述物件的清洗完成后，所述第二支架带动所述喷嘴组件离开所述清洗工位。

2.根据权利要求1所述的清洗机构，其特征在于，所述喷嘴组件包括：

分路块，设于所述第二支架上，所述分路块设有至少一个进口和多个出口，所述进口与所述出口连通；以及

多个喷嘴，依次对应设于所述分路块的所述出口上；其中，所述喷嘴的出射端朝向所述清洗工位设置。

3.根据权利要求2所述的清洗机构，其特征在于，所述分路块设有第一进口；其中，所述喷嘴组件还包括：

储液罐，与所述分路块的所述第一进口连通，用于存储并向所述喷嘴供给清洗液，以对所述物件进行清洗。

4.根据权利要求2或3所述的清洗机构，其特征在于，所述分路块设有第二进口；其中，所述喷嘴组件还包括：

储气罐，与所述分路块的所述第二进口连通，用于存储并向所述喷嘴供给高压气体，以对清洗完后的所述物件进行干燥。

5.根据权利要求2所述的清洗机构，其特征在于，所述喷嘴组件还包括调节板，所述调节板设于所述第二支架上，所述分路块固设于所述调节板上；其中，所述调节板上设有腰形孔，所述腰形孔用于与紧固螺栓配合，以调节所述调节板与所述第二支架的安装角度，进而调节与所述分路块连接的所述喷嘴的喷射角度。

6.根据权利要求2所述的清洗机构，其特征在于，还包括收液盘，所述收液盘设于所述第二支架上，且位于所述喷嘴的出射端的下方；其中，所述收液盘用于对清洗所述物件的过程中产生的废液进行收集并排空。

7.根据权利要求6所述的清洗机构，其特征在于，所述收液盘的底部呈凹型设置，所述收液盘的底部最低处设有导通孔，所述导通孔与外部废液池连接，以使所述废液能够经过所述收液盘汇聚后被集中收集。

8.根据权利要求1所述的清洗机构，其特征在于，所述第一支架设有安装板，所述安装板上设有相互配合的滑轨与滑块；所述第二支架立设于所述滑块上。

9.根据权利要求8所述的清洗机构，其特征在于，所述滑轨上还设有缓冲器，所述滑块上设有与所述缓冲器相对的限位块，以限制所述喷嘴组件在所述第二支架上的滑动距离。