[实用新型]一种新型调Q激光器

说明书

本实用新型公开了一种新型调Q激光器，双室聚光腔设有柱状聚光室与通光室，所述聚光室与通光室并排布置且聚光室设在通光室下侧，所述聚光室内壁上装有泵浦源，所述聚光室内部装有增益介质；聚光室一侧安装有KTP晶体单元；聚光室的另一侧设置有折返棱镜；KTP晶体单元的另一侧安装有准直镜；准直镜的另一侧设有折射镜单元；通光室一侧安装有输出镜；通光室的另一侧设有PBS电压控制单元；PBS电压控制单元另一侧安装有玻片9；玻片9的另一侧设置有电光调Q电场单元；所述电场腔两侧设有电极板；电光调Q电场单元另一设有全反镜；本实用新型结构紧凑，能够通过转镜与电光两种方式调节品质因数Q值，进一步增加激光器峰值功率。

技术领域

本实用新型涉及激光技术领域，具体为一种新型调Q激光器。

背景技术

激光器是一种能发射激光的装置，激光器按工作介质分，可分为气体激光器、固体激光器、半导体激光器和染料激光器4大类，现阶段随着激光技术的发展，根据人们的需求开始出现大功率的激光器，大功率的激光器多数为脉冲激光器，普通的脉冲激光器输出波形多为一些列不规则的尖峰组成，其峰值功率交低，所以我们需要调整激光器中的品质因数，现阶段对品质因数Q的调整方式单一，所以我们需要一种新型的调Q激光器。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型调Q激光器，结构紧凑，能够通过转镜与电光两种方式调节品质因数Q值，进一步增加激光器峰值功率上限。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型调Q激光器，包括基准板、折射镜单元、KTP晶体单元、折返棱镜、输出镜、双室聚光腔、电光调Q电场单元、全反镜，所述双室聚光腔设有柱状聚光室与通光室，所述聚光室与通光室并排布置且聚光室设在通光室下侧，所述聚光室内壁上装有泵浦源，所述聚光室内部装有增益介质；所述双室聚光腔安装在基准板靠近中部的位置；所述聚光室一侧安装有KTP晶体单元；所述聚光室的另一侧设置有折返棱镜；所述KTP晶体单元的另一侧安装有准直镜；所述准直镜的另一侧设有折射镜单元；所述通光室一侧安装有输出镜；所述通光室的另一侧设有PBS电压控制单元；所述PBS电压控制单元另一侧安装有玻片9；所述玻片9的另一侧设置有电光调Q电场单元；所述电光调Q电场单元包括电场腔，所述电场腔两侧设有电极板；所述电光调Q电场单元另一设有全反镜；所述PBS电压控制单元与所述电光调Q电场单元相连接。

优选的，所述聚光室、KTP晶体单元、折返棱镜、准直镜以及折射镜单元在同一条水平直线上；所述通光室、输出镜、玻片9、电光调Q电场单元以及全反镜在同一条水平直线上。

优选的，所述泵浦源为氙灯，所述增益介质为Nd:YAG激光棒。

优选的，所述折射镜单元包括折射镜与旋转柱；所述折射镜安装在旋转柱外侧；所述折射镜单元安装在基准板的一侧靠近边缘的位置。

优选的，所述PBS电压控制单元内置有微型变压器与电压控制芯片，电压控制芯片与所述微型变压器电性连接，电压控制芯片的型号为UC3844。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过两种方式调节激光器的Q值，可进行转镜调Q与电光调Q，并且同时使用两种调Q方式可以提高激光器的功率上限；使用时，装置通电，通过电源给泵浦源提供电能，泵浦源产生光能，光能在聚光室的不断反射照射在增益介质(Nd:YAG激光棒)上，增益介质通过吸收光能，产生激发辐射光子，方向各异，偏离聚光室内的光子很快逸出聚光室外，只有沿聚光室轴线方向振荡的光子进入折返棱镜，折返棱镜可对光子进行震荡并折返回聚光室，使光子可通过聚光室轴线进入KTP晶体单元，KTP晶体单元内置有KTP晶体，光子通过KTP晶体频率扩大一倍并进入准直镜，准直镜对光子准直，准直后的光子进入折射镜单元，通过转动折射镜单元可以输出通过转镜调Q后的激光，并且转动折射镜单元可以将光子反射到全反镜上，通光全反镜将光子反射到电光调Q电场单元，PBS电压控制单元调整电场腔的电压，对光子进行电光调Q，电光调Q后光子通过玻片、通光室与输出镜，由此形成特定波长的激光。

附图说明