[实用新型]一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置

说明书

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置，包括圆柱靶靶材以及磁芯，所述磁芯包括磁钢座、6条长条形强磁钢以及6个扇形磁钢，其特征在于，所述磁钢座上设置6个垂直平面；所述6个垂直平面的上面安装强磁场均匀的所述长条形磁钢；所述6个长条形强磁钢的排布方式为任意相邻的两条长条形磁钢为异性极性排列N‑S‑N或S‑N‑S；所述磁场座两端横面各安装有3个弱磁的所述扇形磁钢。本实用新型提供一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置，具有提高靶材利用率，提升靶材沉积速率，缩短了镀膜时间，从而提升整个真空镀膜过程的生产效率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置，应用于功能性及装饰性材料镀膜等领域的圆柱磁控溅射靶的磁芯装置。

背景技术

圆柱磁控溅射靶是真空镀膜机的重要组成部件，目前各厂家应用的圆柱磁控溅射靶磁场的两端都是有相同磁钢磁通量的磁钢组成，导致两端端头处刻蚀的其他部位严重，从而影响靶材的利用率偏低，而且单支圆柱溅射靶的辉光跑道为一道闭环光环，使得沉积速率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置，具有提高靶材利用率，提升靶材沉积速率，缩短了镀膜时间，从而提升整个真空镀膜过程的生产效率。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置，包括圆柱靶靶材以及磁芯，所述磁芯包括磁钢座、6条长条形强磁钢以及6个扇形磁钢，其特征在于，所述磁钢座上设置6个垂直平面；

进一步地，所述6个垂直平面的上面安装强磁场均匀的长条形强磁钢；

进一步地，所述6个长条形强磁钢的排布方式为任意相邻的两条长条形强磁钢为异性极性排列N-S-N或S-N-S；

进一步地，所述磁钢座两端横面各安装有3个弱磁的扇形磁钢。

进一步地，所述各条长条形强磁钢的两端开头位置分别设置有1条长条形弱磁钢,所述长条形弱磁钢的磁场强度为所述长条形强磁钢磁场强度的 40-50％。

进一步地，所述弱磁的扇形磁钢与所述长条形弱磁钢的磁场强度相同.

进一步地，所述6条长条形强磁钢为3条S极性和3条N极性的长条形强磁钢，

进一步地，所述扇形磁钢与相邻的所述S极性长条形强磁钢相连接，形成3道闭环磁场轨道。

进一步地，所述长条形强磁钢和所述长条形弱磁钢之间用原子灰填充粘和固定。

进一步地，所述长条形强磁钢、扇形磁钢和/或长条形弱磁钢组成整条磁钢，所述整条磁钢利用热缩管包裹进行密封。

优选地，所述长条形强磁钢、扇形磁钢和长条形弱磁钢材质均为钕铁硼。

优选地，所述长条形强磁钢磁场强度为5000GS，所述长条形弱磁钢、扇形磁钢磁场强度为2000GS-2500GS。

本实用新型的有益效果在于：

通过在磁钢座6面平面安装强次的长条形强磁钢，两端开头位置各安装有1条弱磁钢，所述磁钢座两端横面安装有弱磁的扇形磁钢，通过上述的设置圆柱磁控溅射靶进行溅射放电，在圆柱靶两端原凹槽面深度降低85％，明显改善两端溅射深槽的现象，靶材利用率由原来的50％提高到75％，节约生产成本。

每条长条形强磁钢之间用原子灰填充粘和固定，所述整条磁钢外面用热缩管包裹完全密封住，保护磁钢不水浸泡，防止磁钢移位，延长磁钢的使用寿命，便于日常维护清洁。

通过改变磁场磁钢的排布方式由原单一磁场轨道，增加到3道磁场轨道，靶材沉积速率比之前提高3倍，大大的提高膜层沉积速率，提升整个真空镀膜过程的生产效率。