[实用新型]一种大板研磨清洗系统

权利要求书

1.一种大板研磨清洗系统，其特征在于，包括：上料单元、翻转单元、研磨单元、清洗风干单元、下料单元，

所述上料单元：用于对卡夹进行定位，并将卡夹中的产品传入翻转单元；

所述翻转单元：用于将产品进行180°的翻转；

所述研磨单元：用于研磨产品表面，并将研磨好的产品送至清洗风干单元；

所述清洗风干单元：用于清洗吹干产品，并将产品送往下料单元；

所述下料单元：用于接收产品，并将产品一层层堆叠在卡夹内。

2.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述上料单元和下料单元的结构相同。

3.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述上料单元包括上料机架、用于定位卡夹并带动卡夹上下运动的定位单元、多组用于将卡夹中的产品分批输送至下一工位的分料传输单元，所述定位单元在所述上料机架上上下运动，所述分料传输单元设置于所述上料机架上。

4.根据权利要求3所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述定位单元包括载架、定位轮、轮架、浮动平台，所述载架在上料机架上上下运动，所述载架的两端各设置有一组定位轮，所述定位轮通过所述轮架在载架上来回运动。

5.根据权利要求3所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述分料传输单元包括送料架、传动辊、送料滚轮，所述传动辊设置于所述送料架上，所述送料滚轮活动设置于传动辊上。

6.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述翻转单元包括翻转机架、用于固定产品并带动产品翻转的夹持翻转机构、移栽机构，所述移栽机构带动加持翻转机构在翻转机架上来回运动。

7.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述研磨单元包括研磨机台、用于获取和传送产品的研磨上下料机构、对产品进行研磨的研磨处理机构，研磨上下料机构、研磨处理机构设置于所述研磨机台上，所述研磨上下料机构设置于研磨处理机构的两侧。

8.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，清洗风干单元包括风干机构和清洗机构，清洗机构包括毛刷清洗机构、二流体清洗机构、高压喷淋机构中的一种或多种。

9.根据权利要求1-8任一所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，相邻的两个工位之间设置有用于传输产品的输送单元，所述输送单元和所述研磨单元之间连接有涂胶单元，所述涂胶单元对产品侧壁进行涂胶和固化，并将产品输送至所述研磨单元。

10.根据权利要求9所述的一种大板研磨清洗系统，其特征在于，所述输送单元包括输送架、连接辊、输送滚轮，所述连接辊设置于所述输送架上，所述输送滚轮活动设置于所述连接辊上，所述输送单元上设置有用于对产品进行导向和定位的输送定位机构，输送定位机构包括导向轮、导向架、带动导向轮运动的驱动装置，所述导向轮活动设置于导向架上，导向驱动装置通过导向架带动所述导向轮前后运动，使得导向轮对产品进行导向归正。