[实用新型]自退机构

说明书

本实用新型涉及一种自退机构，包括第一支撑架；设置在第一支撑架上用于承载下模具的第二支撑架；设置在第一支撑架上位于第二支撑架的上方的第三支撑架；设置在第三支撑架上且与下模具相配合的上模具；设置在第一支撑架和第二支撑架之间且用于支撑下模具的缓冲机构；设置在缓冲机构上且限定缓冲机构运动至最高处的上限位机构；设置在第一支撑架上且限定缓冲机构运动至最低处的下限位件；所述上模具、下模具和缓冲机构的运动方向均相同。本实用新型使压制的产品具有较好的致密性的效果。

技术领域

本实用新型涉及模具的技术领域，尤其是涉及一种自退机构。

背景技术

随着城市化不断发展，建筑行业的兴起，势必带动建筑原材料的需求量不断上涨，尤其是陶瓷制造业。

陶瓷制备的过程中也会同时会生产一种环形的且侧壁呈阶梯状的卡环，现有的制备的过程中通常会将原料倒入模具中，然后通过压块将原料压实。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷：由于模具本身呈阶梯状，而倒入的原料的顶面为水平面，当压块压实原料的过程中，模具本身呈阶梯状，则每一层的原料的含量都不同，而压块下压的高度相同，则该卡环制备成型后，相邻的层之间的密度不同，导致本身的致密性较差。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种自退机构，具有较好的致密性。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种自退机构，包括第一支撑架；设置在第一支撑架上用于承载下模具的第二支撑架；设置在第一支撑架上位于第二支撑架的上方的第三支撑架；设置在第三支撑架上且与下模具相配合的上模具；设置在第一支撑架和第二支撑架之间且用于支撑下模具的缓冲机构；设置在缓冲机构上且限定缓冲机构运动至最高处的上限位机构；设置在第一支撑架上且限定缓冲机构运动至最低处的下限位件；所述上模具、下模具和缓冲机构的运动方向均相同。

通过采用上述技术方案，确定上限位机构和下限位件的位置，即在初始状态下，下模具的位置是受到上限位机构的限定，往下模具内填充原料，上模具往下模具上运动，从而将下模具内的原料压实，此时下模具的运动受到下限位件的限定，且下模具的形状可变，则下模具内每一层原料的密度均相同，有助于提高整体的致密性。

本实用新型进一步设置为：所述第二支撑架的顶部设置有供下模具放置的环形腔，所述下模具包括从上往下依次滑动连接的第一模具、第二模具和第三模具。

通过采用上述技术方案，随着上限位机构和下限位件之间位置的变化，从而使第一模具、第二模具和第三模具相互之间的位置发生改变，则下模具内每一层原料的密度均相同，有助于提高整体的致密性。

本实用新型进一步设置为：所述第三支撑架的底面设置有与下模具相对应的驱动件，所述上模具包括与下模具相对应的横截面呈环形的压板、通过压块连接在压板上方的连接板，所述驱动件的输出轴与连接板的顶面连接。

通过采用上述技术方案，驱动件驱动连接板运动，从而使压板压紧在下模具上，且压板的横截面呈环状，则压板下压的过程中，不会与第二支撑架发生碰撞，保证整体工作的稳定性。

本实用新型进一步设置为：所述缓冲机构包括：相对设置的且分别与第一模具、第二模具、第三模具抵接的第一缓冲杆、第二缓冲杆、第三缓冲杆；分别套设在第一缓冲杆、第二缓冲杆、第三缓冲杆的第一弹性件、第二弹性件、第三弹性件；所述第一缓冲杆、第二缓冲杆、第三缓冲杆的两端分别穿设第一支撑架和第二支撑架，所述第一弹性件、第二弹性件、第三弹性件的两端分别与第一支撑架的顶面、第二支撑架的底面抵接。