[实用新型]一种精密型腔模表面等离子处理装置

权利要求书

1.一种精密型腔模表面等离子处理装置，包括基座(1)、等离子喷涂机(2)以及安装架(3),其特征在于，所述等离子喷涂机(2)通过安装架(3)安置于基座(1)上，所述基座(1)底部设有工件运动结构；

所述工件运动结构主要包括：搭载架(4)、直线模组平移台(5)、一对导向杆(6)、电机架(7)、电机(8)、转动盘(9)、轴架(10)、轴体(11)、马达(12)以及工装夹具(13)；

所述基座(1)端面设有装配口，搭载架(4)安置于在基座(1)内部，直线模组平移台(5)搭装在搭载架(4)上，一对导向杆(6)与直线模组平移台(5)相互平行的固设在搭载架(4)上，电机架(7)中心部位与直线模组平移台(5)的移动端连接，两端部位装配在一对导向杆(6)上，所述电机(8)位于电机架(7)上，转动盘(9)与电机(8)的驱动端进行连接，轴架(10)位于转动盘(9)中心部位，轴体(11)插装于轴架(10)上，马达(12)位于轴架(10)外壁，与轴体(11)连接，工装夹具(13)套装在轴体(11)上。

2.根据权利要求1所述的一种精密型腔模表面等离子处理装置，其特征在于，所述基座(1)底部设有四个支撑体(14)；该支撑体(14)对基座(1)进行支撑。

3.根据权利要求1所述的一种精密型腔模表面等离子处理装置，其特征在于，所述马达(12)与轴架(10)外壁设有固定架(15)；该固定架(15)对马达(12)进行固定。

4.根据权利要求1所述的一种精密型腔模表面等离子处理装置，其特征在于，所述一对导向杆(6)均具有限位块(16)；该限位块(16)限制电机架(7)的移动行程。

5.根据权利要求1所述的一种精密型腔模表面等离子处理装置，其特征在于，所述轴体(11)的一端上设有限位盘(17)；该限位盘(17)用于限制轴体(11)脱离轴架(10)。