[实用新型]管道清理系统

说明书

本实用新型公开了管道清理系统，包括管道爬行机器人和负压设备，管道爬行机器人与负压设备连接；管道爬行机器人包括旋转电机、第一旋转摆臂以及粉末搅松机构；旋转电机通过输出轴与第一旋转摆臂连接，第一旋转摆臂上设置耐腐蚀塑制刮刀；粉末搅松机构包括至少两根长度不一且错开角度的第二旋转摆臂，第二旋转摆臂的一端与输出轴连接且另一端上设置有耐腐蚀塑制刮刀。本实用新型实现清除粘附在管壁上的粉末及搅松管道内堆积粉末的功能，再通过负压设备进行吸附，以实现在管道长距离清理的同时向外输送粉末，即实现危废粉末的自动清理和收集，相对于传统人工收集方式来说，收集效率更高、安全隐患更低且清理洁净度更高。

技术领域

本实用新型涉及管道清理技术领域，特别涉及管道清理系统。

背景技术

化学气相沉积(CVD)是一种用来沉积多种材料的技术且广泛应用于半导体工业中。它是借由气体混合物发生的化学反应，在基板表面上沉积一层固态化合物的过程，可以用来制造导体和半导体，比如在TFT工艺技术中，主要通过CVD技术形成非金属薄膜，包括SiN等绝缘膜、非晶硅膜和n+非晶硅膜等。

CVD系统管道内部堆积物成分复杂，主要成分为危废物氟化硅，大量堆积在管道底部，且管壁以及上方都粘有污染物，同时有废气如甲烷、硫化氢等有毒气体排入管道中，管道内部环境极其恶劣。管道都是离地4米左右高空悬挂，长短不一，大小各异，复杂条件造成管道的清理困难。

管道长，堆积物多，目前只采用人工收集危废粉末的方式。但因为清理该管道均属高空作业，且管道内环境恶劣，所以存在较大的安全隐患。考虑到恶劣环境对清洁工人身体的伤害，采用分批次人工轮流清理制，限定工人每次清理不超过20分钟。即现有的人工收集危废粉末的方法存在收集效率低且安全隐患高等问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供管道清理系统，以实现危废粉末的自动清理和收集，减少安全隐患，提高收集效率。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：

管道清理系统，包括管道爬行机器人和负压设备，所述管道爬行机器人与所述负压设备连接；

所述管道爬行机器人包括旋转电机、第一旋转摆臂以及粉末搅松机构；

所述旋转电机通过输出轴与所述第一旋转摆臂连接，所述第一旋转摆臂上设置有紧贴待清理管道的内壁的耐腐蚀塑制刮刀；

所述粉末搅松机构包括至少两根长度不一且错开角度的第二旋转摆臂，所述第二旋转摆臂的一端与所述输出轴连接且另一端上设置有耐腐蚀塑制刮刀。

进一步地，每一根所述第二旋转摆臂与所述输出轴的连接位置在所述输出轴的延长方向上均为不同。

进一步地，所述输出轴上设置有两根上下对称的第一旋转摆臂，所述第一旋转摆臂与所述输出轴为斜向连接。

进一步地，所述粉末搅松机构包括三根相互错开120°的第二旋转摆臂，所述第二旋转摆臂的长度随着与所述输出轴上远离所述旋转电机的一端的距离增大而减小。

进一步地，所述耐腐蚀塑制刮刀为铁氟龙刮刀。

进一步地，还包括负压设备，所述负压设备包括真空泵、罗茨风机、罐体及吸料管，所述真空泵与所述罗茨风机分别与所述罐体连接，所述罐体与所述吸料管连接，所述吸料管与所述爬行机器人连接。

进一步地，所述旋转电机与所述第一旋转摆臂之间设置有挡板，所述挡板在靠近所述旋转电机的一侧上安装有后侧加强板；所述挡板在靠近所述第一旋转摆臂的一侧上安装有红外线传感器；

所述管道爬行机器人在远离所述挡板的一端上以及所述挡板在靠近所述旋转电机的一侧上均安装有摄像头。