[实用新型]一种防沉积的IC厌氧反应器

权利要求书

1.一种防沉积的IC厌氧反应器，包括罐体、设置于所述罐体顶部的气液分离器，所述分离器具有分离腔，其特征在于，所述厌氧反应器还包括设置于所述罐体内的回流管，所述回流管由下至上穿出所述气液分离器的外侧，在所述气液分离器内侧的所述回流管上设有进液口，所述进液口的下缘与所述气液分离器的下缘之间具有间隙，所述气液分离器内还设有罩设所述进液口的罩壳，所述罩壳与所述回流管相连，且所述罩壳形成有通孔所述通孔的上缘低于所述进液口的下缘。

2.根据权利要求1所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述进液口环绕所述回流管开设。

3.根据权利要求2所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述罩壳包括环设在所述进液口上侧的环板、与所述环板相连的筒体，所述筒体的下缘与所述气液分离器的底壁之间的间隙构成所述通孔。

4.根据权利要求3所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述筒体的内壁间隔设有若干个脉冲喷水头，各所述脉冲喷水头分别通过水管与外界供水设备连通。

5.根据权利要求2所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述回流管包括：

上管段，由所述分离腔内伸出所述分离器的上侧；

下管段，由所述分离腔伸入所述罐体内，在所述下管段的顶部设有搭接环，所述搭接环的外径小于所述上管段的内径；

其中，所述分离腔的底壁形成有安装筒，所述下管段的下段穿过所述安装筒，且所述搭接环搭接于所述安装筒的顶部。

6.根据权利要求5所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述下管段的上端的内壁还形成有提拉块。

7.根据权利要求1所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述IC厌氧反应器还包括与所述回流管上端可拆卸连接的封闭板。

8.根据权利要求7所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述封闭板的底部设有活塞杆，所述活塞杆的下端设有与所述回流管配合的活塞，所述封闭板与所述回流管相连时，所述活塞的下缘与所述进液口的上缘高度一致。

9.根据权利要求7所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述封闭板与所述回流管的上端通过法兰连接。

10.根据权利要求1所述的一种防沉积的IC厌氧反应器，其特征在于，所述回流管为PVC回流管。