[实用新型]具量子点的画素基板有效

专利信息
申请号: 201921593635.1 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN210722229U 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 许铭案;林文福;谢东宏;林佳慧 申请(专利权)人: 恒煦电子材料股份有限公司
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33;H01L27/32
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 周鹤
地址: 中国台湾苗栗*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 画素基板
【说明书】:

实用新型公开了一种具量子点的画素基板,包含:一透明基板;一黑矩阵层,形成于该透明基板的表面,并定义数个像素空间;数个量子点胶层,个别形成于该数个像素空间中;及其中,该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成,且构成倒梯形或漏斗形结构,而使该些像素空间构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。据此可简化量子点所构成的像素基板的结构。

技术领域

本实用新型是关于一种量子点技术,特别是关于一种具量子点的画素基板。

背景技术

量子点(Quantum Dots)作为平面显示器技术的应用材料已经成为下一代显示技术的热点。量子点有以下的特色,其转换光谱可随尺寸调整(通过调整量子点的纳米晶体大小,尺寸在1~20nm之间)、发光效率高、发光稳定性好等光学性能。并且,量子点大多为无机化合物,其性能稳定,具有耐久性佳的特色。使得量子点技术成为下一代显示技术的关注重点。

目前,已经有厂商发展出量子点发光二极管(Quantum Dots Light EmittingDiodes,QD-LEDs)、量子点有机发光二极管(Quantum Dots Organic Light EmittingDiodes,QD-LEDs)等显示技术。目前的发展,主要是利用发光二极管或有机发光二极管的发光来作为量子点的光源,让其转换到想要发光的频谱。无论是哪一种应用手段,由于量子点的制程技术与发光二极管或有机发光二极管的制程大不相同,因此,由量子点所构成的像素基板的制作,目前尚须与两者的制程分开。

因此,如何能够简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构,成为目前量子点显示技术开发厂商所寻求的发展方向。

实用新型内容

为达上述目的,本实用新型提供一种具量子点的画素基板,可达到让量子点灌注容易,生产良率提高,进一步可加速量子点运用于显示技术进程的特殊技术功效。

本实用新型的目的在于提供一种具量子点的画素基板,包含:一透明基板;一黑矩阵层,形成于该透明基板的表面,并定义数个像素空间;数个量子点胶层,个别形成于该数个像素空间中;及其中,该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成,且构成倒梯形或漏斗形结构,而使该数个像素空间分别构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。据此可简化量子点所构成的像素基板的结构。

为让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举数个较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下(实施方式)。

附图说明

图1为本技术方案所揭示的一种具量子点的画素基板的制作方法流程图。

图2A-2E为图4C所示的局部的剖面图的制作流程图。

图3A-3F为图4D所示的局部的剖面图的制作流程图。

图4A说明了本技术方案的具量子点的像素基板及其所对应的发光基板的示意图。

图4B为本技术方案的具量子点的像素基板及其所对应的局部的放大示意图。

图4C、4D为本技术方案的具量子点的像素基板的局部沿A-A剖面线的剖面示意图。

附图中的符号说明:

2、3:局部;10:具量子点的像素基板;11:透明基板;12:光阻层;12-1、12-2、12-3:黑矩阵层;20:发光层;30-1、30-2、30-3:量子点胶层;40:光罩;80:紫外光;90:光;91:目标光。

具体实施方式

根据本技术方案的实施例,本技术方案运用曝光显影制程来制作具量子点的画素基板,借以制作出高精度的黑矩阵层,让量子点可准确地灌注于由黑矩阵层所定义的像素空间中,进而达到制程简易,高分辨率的下一代显示技术所需的具量子点的画素基板,以作为量子点显示器使用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恒煦电子材料股份有限公司,未经恒煦电子材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921593635.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top