[实用新型]治具有效

专利信息
申请号: 201921572072.8 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN210526580U 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 陈开鹰 申请(专利权)人: 上海新昇半导体科技有限公司
主分类号: B62B3/00 分类号: B62B3/00;B62B3/10
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 201306 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 治具
【说明书】:

实用新型提供一种治具,包括:挂板,所述挂板上设置有至少一个挂钩,所述挂钩上设置有用于悬挂研磨部件的凹部;底板,位于所述挂板的下方。本实用新型提供的治具可用于存储和搬运晶圆载具和修整器等研磨部件。基于其优化的结构设计,本实用新型的治具可极大减少研磨部件在储存和搬运等过程中造成的磨损,有利于避免因研磨部件上残留的水分和药液等造成晶圆厂内的污染和由此引发的环境安全等问题。采用本实用新型的治具搬运研磨部件,可极大减少人力劳动,有助于提高晶圆厂的安全管理水平。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造设备领域,特别是涉及一种治具。

背景技术

化学机械研磨是晶圆制造工艺中非常重要的部分,其主要过程是将晶圆放置于研磨设备的研磨垫上,通过机械和化学作用将晶圆表面的非平坦部分去除以实现晶圆表面的全面平坦化。化学机械研磨工艺的优点虽然很多,但其缺点也很明显,其中之一就是设备和耗材昂贵导致化学机械研磨工艺的成本居高不下。比如,化学机械研磨设备中使用的晶圆载具(carrier,用于在研磨过程中固定晶圆的部件)和用于修整研磨垫的修整器(Diamonddresser)单套价格都高达数十万,这使得对研磨设备的各种部件的使用和管理必须非常谨慎,比如在储存和传送过程中要尽量避免部件之间或部件与其他人和/或物直接发生碰撞而造成人为的损坏和磨损。

现有的晶圆厂内并没有专门存放晶圆载具和修整器的空间,都是将待使用和使用完后的晶圆载具和修整器悬挂于研磨设备外侧的不锈钢挂钩上,不仅晶圆载具和修整器容易被不锈钢挂钩磨损,而且刚从研磨设备上取下的这些部件表面残留有水分和药液,容易滴落造成地面积水,不仅不符合无尘室6S管理要求,还容易造成人员跌倒摔伤,而且残留药液会对地板漆和地面管线等造成腐蚀。此外,由于没有合适的搬运工具,厂内的晶圆载具/修整器在需要时都是由工作人员手动传送,不仅容易导致部件的弯曲变形(晶圆载具一旦变形就无法再承载晶圆而只能做报废处理),而且像修整器这种重达15公斤以上的部件靠人工搬运非常吃力,容易造成人员伤害。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种治具,用于解决现有的晶圆厂内缺乏有效的工具来存放和搬运晶圆载具和修整器等研磨部件,导致研磨部件的乱存乱放问题突出,由此容易导致研磨部件的损伤和无尘室内的环境污染和人员伤害等问题。

为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种治具,所述治具包括:挂板,所述挂板上设置有至少一个挂钩,所述挂钩上设置有凹部;底板,位于所述挂板的下方。

可选地,所述挂钩为2个,所述2个挂钩位于同一垂线上且所述2个挂钩的间距与待悬挂的研磨部件的尺寸相匹配。

可选地,所述挂钩为多个,所述多个挂钩分布于所述挂板的相对的两个表面上。

在一可选方案中,所述治具还包括托架,位于所述底板上且位于所述挂钩的下方,所述托架上设置有卡槽和排水孔,所述排水孔与所述储水槽相连通。

更可选地,所述托架包括水平部和位于所述水平部两侧的斜坡部,所述斜坡部的斜面高度沿远离所述水平部的方向逐渐增大;所述排水孔位于所述水平部上,所述卡槽位于所述斜坡部的斜面上,所述卡槽的长度方向与所述挂钩的长度方向相垂直。

可选地,所述凹部为多个,所述多个凹部沿所述挂钩的长度方向分布,所述凹部用于悬挂研磨部件,所述凹部与所述卡槽一一上下对应。

可选地,所述治具还包括支撑柱,所述支撑柱一端与所述挂板相连接,另一端与所述底板相连接。

可选地,所述底板上设置有储水槽和排水口,所述排水口与所述储水槽相连通。

可选地,所述治具还包括滚轮,位于所述底板远离所述挂板的表面。

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