[实用新型]单银低辐射玻璃及被动房有效
| 申请号： | 201921570347.4 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN210765014U | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 董清世;史祥飞;罗应成 | 申请（专利权）人： | 信义玻璃（天津）有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;E04H1/12 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 袁哲 |
| 地址： | 300000 天津市滨*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单银低 辐射 玻璃 被动 | ||
1.一种单银低辐射玻璃，其特征在于：包括，
玻璃基板；
低辐射膜层，所述低辐射膜层包括依次叠层设置的第一电介质层、功能银层、阻挡层以及第二电介质层；所述第一电介质层覆盖于所述玻璃基板的表面，所述第一电介质层背向所述功能银层的侧面与所述玻璃基板连接。
2.根据权利要求1所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述功能银层的厚度范围为12nm～15nm。
3.根据权利要求1所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一电介质层为非金属氮化物层或者非金属氧化物层。
4.根据权利要求1所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一电介质层的厚度范围为25nm～35nm。
5.根据权利要求1所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述第二电介质层为非金属氮化物层或者非金属氧化物层。
6.根据权利要求1所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述第二电介质层的厚度范围为25nm～35nm。
7.根据权利要求1～6任一项所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述阻挡层为镍铬层、氧化镍铬层或氮化镍铬层中的一种。
8.根据权利要求1～6任一项所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述阻挡层的厚度范围为0.5nm～1.5nm。
9.根据权利要求1～6任一项所述的单银低辐射玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为白玻基板或者超白玻基板。
10.一种被动房，其特征在于：包括权利要求1～9任一项所述单银低辐射玻璃。
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