[实用新型]一种简易高折光处理的TFE保护膜

权利要求书

1.一种简易高折光处理的TFE保护膜，包括基材，其特征在于，所述的基材为透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75-100μm的光学薄膜，在所述基材一个面涂布有简易AR层，PU胶层涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜，其中，所述简易AR层的成分为硅氧烷类化合物层，厚度为50-500nm，表面电阻达到10⁸-10¹¹Ω/□；所述PU胶层的表面电阻为10⁸-10¹¹Ω/□，剥离力为0-3g/25mm。

2.如权利要求1所述的一种简易高折光处理的TFE保护膜，其特征在于：所述光学薄膜为表面平整、洁净和没有点状异物的PET、PC、COP薄膜。

3.如权利要求1所述的一种简易高折光处理的TFE保护膜，其特征在于：所述PU胶层的厚度为50—100μm，厚度公差在5μm以内。

4.如权利要求1或3所述的一种简易高折光处理的TFE保护膜，其特征在于：所述PU胶层在长期高温高湿下为不会对屏幕产生残胶污染且剥离力不大于5g/25mm的PU胶层。

5.如权利要求1所述的一种简易高折光处理的TFE保护膜，其特征在于，所述离型膜为厚度25—100um的PET离型膜。

6.如权利要求1或5所述的简易高折光处理的TFE保护膜，其特征在于：所述离型膜为平整、洁净和无点状异物的双面防静电的离型膜，离型膜的离型面电阻在10⁵-10¹¹Ω/□，其离型膜背面电阻在10⁵-10¹¹Ω/□。