[实用新型]一种高纯无水氢氟酸取样设备

说明书

本实用新型涉及一种高纯无水氢氟酸取样设备，包括壳体，壳体通过固定支架支撑，壳体顶部的进风口处设置有高效过滤器，壳体内底部设有层流板，层流板为均匀多孔结构，壳体内侧壁处设置有抽风盒，层流板的出风口与抽风盒进风口相连，抽风盒的出风口连接有抽风管，高效过滤器进入的风经层流板扰流后通过抽风盒和抽风管形成空气循环回路，壳体内置有冰水盒，取样瓶置于冰水盒内，取样瓶的取样口通过进液管道依次连接取样阀门、进液接头，取样阀门设置在壳体外部，高纯无水氢氟酸通过进液接头、取样阀门、进液管道进入取样瓶中；本实用新型大幅度提高了取样环境的洁净度，能够防止取样操作中污染样品，同时最大程度减少了废气对人员的伤害。

[技术领域]

本实用新型涉及化工设备技术领域，具体地说是一种高纯无水氢氟酸取样设备。

[背景技术]

芯片、液晶面板等行业制造流程越发要求精细化、高性能化。在上述行业生产中需要用到高纯氢氟酸，目前高纯氢氟酸制作工艺为将无水氢氟酸经化学预处理后，进入精馏塔通过精馏操作，得到的无水氢氟酸经冷却后，在吸收塔中用超纯水吸收，并采用控制喷淋密度、气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化，随后经0.2μm以下超滤工序，最后在密闭洁净环境条件下(CLASS 100)进行灌装得到最终产品——高纯氢氟酸。其中，在工艺制程中要对无水氢氟酸进行多次取样，以便更好的调整工艺参数。无水氢氟酸取样设备需要满足取样环境保持在高洁净等级，取样废气需要处理，更加安全和易于操作。

然而，目前高纯无水氢氟酸设备多数移植工业级氢氟酸取样样式，大多采用敞开式取样，没有对空间洁净做出考虑，对取样空间的环境不做控制，因为污染物对工业级氢氟酸来说没有高纯氢氟酸有着严格的要求。另外，现有取样是对安全性考虑不够，废气没有做处理，因为无水氢氟酸的温度高于5℃时候易于挥发，现有设备没有对挥发后的酸气进行处理，易于造成安全风险。同时，取样瓶取样时采用敞开式设计，污染物容易污染样品，且取样操作不规范，易于造成危险。

[实用新型内容]

本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种高纯无水氢氟酸取样设备，大幅度提高了取样环境的洁净度，能够防止取样操作中污染样品，同时最大程度减少了废气对人员的伤害。

为实现上述目的设计一种高纯无水氢氟酸取样设备，包括高效过滤器1、壳体2、固定支架4、抽风管5、进液接头6、取样阀门7、进液管道8、层流板9、抽风盒10、冰水盒12、取样瓶17，所述壳体2为中空的密封壳体，所述壳体2下方设有固定支架4且通过固定支架4支撑，所述壳体2顶部开设有进风口，所述进风口处设置有高效过滤器1，所述壳体2内底部设有层流板9，所述层流板9为均匀多孔结构，所述壳体2内侧壁处设置有抽风盒10，所述层流板9的出风口与抽风盒10进风口相连，所述抽风盒10的出风口连接有抽风管5，所述高效过滤器1进入的风经层流板9扰流后通过抽风盒10和抽风管5形成空气循环回路，所述壳体2内置有冰水盒12，所述取样瓶17置于冰水盒12内，所述取样瓶17的取样口通过进液管道8依次连接取样阀门7、进液接头6，所述取样阀门7设置在壳体2外部，所述进液接头6设置在壳体2顶部，所述高纯无水氢氟酸通过进液接头6、取样阀门7、进液管道8进入取样瓶17中。

进一步地，所述层流板9内设有层流通道，所述层流板9设置有两层，每层层流板9采用厚度为6毫米的聚丙烯板制成，所述层流板9的上下间隔距离为15毫米，每层层流板9上均布有间距为20毫米、直径为5毫米的通风孔。

进一步地，所述壳体2正面装设有取样门3，所述取样门3采用透明聚氯乙烯制成，所述取样门3用于观察取样瓶17内液位。

进一步地，所述取样瓶17的瓶口装有取样瓶接头16，所述取样瓶接头16上设有快速接头一18和快速接头二19，所述快速接头一18与进液管道8衔接，所述快速接头二19与取样排气管11衔接，所述取样排气管11另一端接入抽风盒10。