[实用新型]一种碳酰氟的纯化装置有效
申请号: | 201921539237.1 | 申请日: | 2019-09-17 |
公开(公告)号: | CN210480875U | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 金向华;张红敏;王新喜;孙猛;温海涛;侯倩;刘晶 | 申请(专利权)人: | 苏州金宏气体股份有限公司 |
主分类号: | C01B32/00 | 分类号: | C01B32/00 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陆金星 |
地址: | 215152 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 酰氟 纯化 装置 | ||
本实用新型公开了一种碳酰氟的纯化装置,包括用于存储粗品碳酰氟的原料储罐和用于存储高纯碳酰氟的产品储罐,还包括用于初步脱除碳酰氟中高沸点组分出口的冷阱设备、用于进一步脱除碳酰氟中高沸点组分出口和低沸点组分出口的精馏系统以及用于脱除碳酰氟中杂质的吸附系统,原料储罐的出口连接至冷阱设备的入口,冷阱设备的低沸点组分出口连接至精馏系统的入口,精馏系统的出口连接至吸附系统的入口,吸附系统的出口连接至产品储罐。本实用新型采用低温冷阱结合精馏、吸附的工艺,选择合适的工艺参数,将HCl和CO2与COF2进行了有效的分离,大大提高碳酰氟纯度。
技术领域
本实用新型涉及提纯领域,具体涉及一种碳酰氟的纯化装置。
背景技术
碳酰氟(COF2),又称碳基氟,氟光气,常温下是一种有刺激性的、非易燃的无色有毒气体。近年来,COF2用于半导体制造装置的清洗气和刻蚀气,有机化合物的氟化气和原料以及有机合成的中间体、氟化剂,作为半导体制造装置用的清洗气需要高纯度的COF2,受到了越来越多的关注。
但是在现有技术合成的碳酰氟粗品中,可能有HCl、HF、COCl2、CF4、CO2、CO、N2和O2等杂质,在常压下,COF2的沸点为-84.57℃,HCl的沸点为-85℃,HF的沸点为19.52℃,COCl2的沸点为7.56℃,CF4的沸点为-128.06℃,CO2的沸点是-78.45℃,CO的沸点是-191.45℃,N2的沸点为-195.8℃,O2的沸点为-182.98℃;其中,COF2与HCl、CO2的沸点接近差别较小,因此分离较难,对于COF2与HCl的纯化分离,中国专利CN200980139487介绍了一种分离COF2和HCl的方法,将包含COF2和HCl的混合物和与HCl有共沸关系但与COF2没有共沸关系的有机溶剂进行混合,对它们进行精馏来分离出COF2。对于COF2和CO2的纯化分离,由于二者不仅沸点非常接近而且二者物理化学性质和分子大小比较接近,因此通过现有单纯的吸附法、精馏法进行纯化分离具有较大难度;此外,由于COF2和CO2都容易与碱性物质反应,因此通过中和分离二者也较困难。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种碳酰氟的纯化装置,采用低温冷阱结合精馏、吸附的工艺,选择合适的工艺参数,将HCl和CO2与COF2进行了有效的分离,大大提高碳酰氟纯度。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种碳酰氟的纯化装置,包括用于存储粗品碳酰氟的原料储罐和用于存储高纯碳酰氟的产品储罐,还包括用于包括用于初步脱除碳酰氟中高沸点组分出口的冷阱设备、用于进一步脱除碳酰氟中高沸点组分出口和低沸点组分出口的精馏系统以及用于脱除碳酰氟中杂质的吸附系统,所述原料储罐的出口连接至所述冷阱设备的入口,所述冷阱设备的低沸点组分出口连接至所述精馏系统的入口,所述精馏系统的出口连接至所述吸附系统的入口,所述吸附系统的出口连接至所述产品储罐。
进一步的,所述冷阱设备的低沸点组分出口靠近其上端,所述冷阱设备的高沸点组分出口靠近其下端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州金宏气体股份有限公司,未经苏州金宏气体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921539237.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:工作组件提升装置及园林工具
- 下一篇:一种手机连接以太网加充电转换器