[实用新型]一种高速DFB激光器有效
| 申请号： | 201921537626.0 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN210468377U | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 单智发;张永;姜伟;陈阳华 | 申请（专利权）人： | 全磊光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/12 | 分类号： | H01S5/12;H01S5/22;H01S5/34;H01S5/343 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 刘计成 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高速 dfb 激光器 | ||
1.一种高速DFB激光器，其特征在于：该激光器的外延结构包括InP衬底(01)，所述InP衬底(01)上沉积有缓冲层(02)，所述缓冲层(02)的左上方沉积有纵向限制层(04)；所述缓冲层(02)的右上方由下往上依次沉积有光栅层(03)、过度层(05)、有源区下限制层(06)、下波导层(07)、量子阱(08)、上波导层(09)和有源区上限制层(10)；所述纵向限制层(04)与所述有源区上限制层(10)的上端齐平且两者上方沉积一腐蚀阻挡层(11)；所述腐蚀阻挡层(11)的上方依次沉积有联接层(12)、第一势垒渐变层(13)、第二势垒渐变层(14)和欧姆接触层(15)；所述光栅层(03)为张应变结构且应变量为500-1000ppm。
2.根据权利要求1所述的一种高速DFB激光器，其特征在于：所述光栅层(03)的厚度为40～60nm。
3.根据权利要求1所述的一种高速DFB激光器，其特征在于：所述腐蚀阻挡层(11)的厚度为40～60nm。
4.根据权利要求1所述的一种高速DFB激光器，其特征在于：所述过度层(05)的厚度为26～30nm。
5.根据权利要求1所述的一种高速DFB激光器，其特征在于：所述缓冲层(02)的厚度为8～12nm。
6.根据权利要求1所述的一种高速DFB激光器，其特征在于：所述第一势垒渐变层(13)、第二势垒渐变层(14)的波长分别为1300nm和1500nm。
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