[实用新型]用于合成碳化硅粉料的坩埚组件

权利要求书

1.一种用于合成碳化硅粉料的坩埚组件，其特征在于，其包括：

坩埚，所述坩埚至少设置一个进气孔和至少一个出气孔，所述坩埚用于盛放原料；和

多孔石墨片，所述多孔石墨片设置在所述坩埚内，所述多孔石墨片覆盖所述进气孔，所述多孔石墨片的平均孔径低于所述原料的平均粒径，气流从所述进气孔流经多孔石墨片和坩埚内原料后，从所述出气孔流出。

2.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述多孔石墨片的最大孔径低于所述原料的最小粒径，所述多孔石墨片的平均孔径为1-10μm，孔隙密度不低于100/cm²。

3.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述进气孔设置在所述坩埚的坩埚底壁，所述多孔石墨片覆盖所述坩埚底壁。

4.根据权利要求3所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚下方设置与所述进气孔连通的缓冲室，所述缓冲室设置气流入孔，所述气流从所述气流入孔流经缓冲室后进入所述进气孔；或

所述坩埚下方设置与所述进气孔连通的缓冲室，所述缓冲室设置气流入孔，所述坩埚组件还包括导气管，所述导气管的上端穿过所述进气孔其出口插入所述多孔石墨片内，所述导气管的下端穿过所述气流入孔其入口与气源连通，所述导气管用于输送所述气流。

5.根据权利要求4所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚底壁设为所述缓冲室的顶壁，所述坩埚底壁的下方设置石墨保温层。

6.根据权利要求4所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚底壁设置多个均匀分布的进气孔；和/或

所述气流入孔设置在所述缓冲室的底壁。

7.根据权利要求4所述的坩埚组件，其特征在于，所述缓冲室包括石墨侧壁和金属底壁。

8.根据权利要求3所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚组件还包括导气管，所述导气管的上端穿过所述进气孔其出口插入所述多孔石墨片内，所述导气管的下端入口与气源连通，所述导气管用于输送所述气流。

9.根据权利要求4或8所述的坩埚组件，其特征在于，所述导气管的上端为石墨导气管，所述导气管的下端为金属导气管。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的坩埚组件，其特征在于，所述出气孔设置在所述坩埚的顶部的坩埚盖上。