[实用新型]红外带通滤波结构及应用该结构的红外带通滤波器

说明书

本实用新型提供了一种红外带通滤波结构由复数氢化硅铝层及复数较低折射率层交互堆栈形成，该复数较低折射率层为一氧化物，该红外带通滤波结构具有800nm至1600nm的波长范围内至少部分重迭的一通带，该通带具有一中心波长，且该中心波长在入射角自0°改变至30°时，在量值上偏移幅度小于11nm；一种红外带通滤波器则是于一基板的第一侧面形成上述的红外带通滤波结构，于该基板的相反该第一侧面的一第二侧面上形成有一抗反射层；由此可提升溅镀效率以大幅降低制作成本，以及可减小膜层的翘曲量以解决后制切割易崩角的问题。

技术领域

本实用新型涉及一种红外带通滤波结构及滤波器的结构方面的技术领域，尤指一种可提升溅镀效率以大幅降低制作成本，以及可减小膜层的翘曲量以解决后制切割易崩角问题的红外带通滤波结构及应用该结构的红外带通滤波器者。

背景技术

一般滤光器按光谱特性可分为带通滤光器、短波截止滤光器、长波截止滤光器。带通型滤光器指选定特定波段的光通过，通带以外的光截止，按带宽分为窄带和宽带，通常按带宽比中心波长的值来区分，小于5％为窄带，大于5％则为宽带。为了减少环境可见光线的干扰，普遍采用窄带干涉滤波器。传统的RGB可见光摄像头，需要采用红外截止滤波器，将不必要的低频近红外光过滤掉，以免红外光线对可见光部分造成影响，产生伪色或波纹，同时可以提高有效分辨率和彩色还原性。但是红外摄像头，为了不受到环境光线的干扰，需要使用窄带滤波器(即红外带通滤波器)，只允许特定波段的近红外光通过。

一种通常熟知的红外带通滤波器，如湾公告第I576617号、第I648561号「光学滤波器及感测系统」专利所示，其主要是由复数氢化硅层及复数较低折射率层交互堆栈形成，该红外带通滤波结构具有800nm至1600nm的波长范围内至少部分重迭的一通带(passband)，该通带具有一中心波长，且该中心波长在入射角自0°改变至30°时，在量值(magnitude)上偏移(shifts)幅度约12.2～20nm。其中，复数氢化硅层各自具有在800nm至1100nm的该波长范围内大于(接近)3.5的一折射率，该复数较低折射率层为一氧化物，在800nm至1100nm的波长范围内的折射率小于2，其可包括二氧化硅(SiO₂)、氧化铝(Al₂O₃)、二氧化钛(TiO₂)、五氧化二铌(Nb₂O₅)、五氧化二钽(Ta₂O₅)及其混合物中的至少一者。

然而，通常熟知红外带通滤波器在实际实施时具有以下缺点：

1、该通常熟知由该复数氢化硅层及该复数较低折射率层交互堆栈形成的红外带滤波器的通带的中心波长在入射角自0°改变至30°时会有较大的偏移量(约12.2～20nm)，因此易导致其应用于三维成像系统，于大角度收光时发生无法识别或识别失败的问题。

2、该通常熟知红外带通滤波器的膜层是利用纯硅靶进行溅镀形成，而纯硅靶只能使用5-6KW功率进行溅度制程，过大的功率将使纯硅靶材造成靶裂现象而无法使用，因此其在溅镀膜层时需花费较多时间，而使溅镀效率非常差，进而增加制作的成本(如电费、工时…等)。

3、该通常熟知红外带通滤波器的膜层具有较厚的厚度，所以其镀设于玻璃基板上时会产生较大的翘曲量，导致在后续的切割制程时易产生严重崩角的问题。

有鉴于此，本申请人乃是针对上述的问题，而深入构思，且积极研究改良试做而开发设计出本实用新型。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于解决通常熟知红外带通滤波器所存在的溅效率低导致制作成本高，以及膜层的翘曲量导致后制切割时易产生崩角等诸多问题。