[实用新型]一种减少硅片划痕的吸盘

说明书

本实用新型涉及硅片上下料技术领域，具体是一种减少硅片划痕的吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体顶端设置有凸台，所述凸台上设置有若干安装孔，所述凸台底部设置有盖板，所述盖板内侧设置有吸附机构，所述盖板左侧设置有工作面，本实用新型，通过使工作面与凸台左端共面，使工作面的加工变得更加简单，大大提高了工作面的平整度和粗糙度，保证了装置所吸附硅片的品质，通过设置吸附机构，可以将硅片牢牢吸附在工作面上，密封性好，不会出现漏气现象，不会影响吸盘的吸力。

技术领域

本实用新型涉及硅片上下料技术领域，具体是一种减少硅片划痕的吸盘。

背景技术

随着国家对光伏发电的补贴减少平价上网成了目前主流的方式，为了能够具备和常规动力发电相抗衡，因此，太阳能电站必须有低的制造成本快的回收周期及高的发电效率，目前单晶硅的使用也越来越广泛，发电效率已经达到20%以上，随着黑硅制绒技术的广泛应用，对硅片表面的质量要求越来越高，因此在硅片生产过程当中，产生微量的划痕等都严重影响在硅片的发电效率。

前市场上的取放太阳能硅片的吸盘，吸盘工作面位于凸台的一侧，由于凸台的存在，给磨削和抛光带来了一定的困难，平面度和粗糙度很难达到使用要求，因此，针对以上现状，迫切需要开发一种减少硅片划痕的吸盘，以克服当前实际应用中的不足。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种减少硅片划痕的吸盘，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种减少硅片划痕的吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体顶端设置有凸台，所述凸台上设置有若干安装孔，所述凸台底部设置有盖板，所述盖板内侧设置有吸附机构，所述盖板左侧设置有工作面。

作为本实用新型进一步的方案：所述工作面与凸台左端共面。

作为本实用新型进一步的方案：所述盖板外表面和凸台底面为同一平面。

作为本实用新型进一步的方案：所述吸附机构包括气流通道和真空室，所述气流通道设置盖板内侧，所述气流通道右侧设置若干真空室，所述真空室与气流通道之间通过连接孔连接。

作为本实用新型进一步的方案：所述工作面内设置有用于安放盖板的凹槽。

作为本实用新型进一步的方案：所述凸台内侧设置有通气孔，所述通气孔与气流通道固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.通过使工作面与凸台左端共面，使工作面的加工变得更加简单，大大提高了工作面的平整度和粗糙度，保证了装置所吸附硅片的品质；

2.通过设置吸附机构，可以将硅片牢牢吸附在工作面上，密封性好，不会出现漏气现象，不会影响吸盘的吸力。

附图说明

图1为减少硅片划痕的吸盘的结构示意图。

图2为减少硅片划痕的吸盘的主视图。

图3为减少硅片划痕的吸盘的侧视图。

图中：1-吸盘本体，2-盖板，3-安装孔，4-通气孔，5-凸台，6-气流通道，7-真空室，8-工作面，9-凹槽，10-连接孔。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。

下面详细描述本专利的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利，而不能理解为对本专利的限制。