[实用新型]一种新型MASK框有效

专利信息
申请号: 201921444102.7 申请日: 2019-09-02
公开(公告)号: CN210945754U 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 梅德忠 申请(专利权)人: 苏州德润达电子科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04
代理公司: 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 代理人: 刘慧
地址: 215000 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 mask
【说明书】:

实用新型公开了一种新型MASK框,包括MASK框本体,其特征在于:所述MASK框本体相邻两侧边垂直设置,所述MASK框本体包括外层边框和内层边框,所述MASK框本体为分割型框,由若干单个部分框体组装而成,组装处留有应力槽,所述外层边框和内层边框之间采用组合拼接的方式,所述外层边框为钛材质,所述内层边框为铝合金材质。本实用新型的优点在于:设有应力槽来降低MASK框内应力,使得整体变形量降低,再生使用时更容易矫正;内层边框采用钛材质,可降低MASK框边缘消耗,同时外层边框仍采用铝合金材质,降低成本。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种新型MASK框。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法,主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空粒子镀等。其中真空溅射镀是用带电粒子轰击靶材,加速的离子轰击固体表面,使靶材原子从表面逸出飞向基板,沉积成薄膜。

在真空溅射镀膜过程中,会出现如下问题:1、靶材原子飞向基板沉积成薄膜时,同时靶材原子也会打在MASK框上,使MASK框产生压应力,改变MASK框的形状,常常多次使用后变需要更换。2、靶材原子沉积在MASK框上时,需要取出MASK进行清洗,通常酸洗过后,MASK框会消耗,尤其在MASK框边缘处易沉积,酸洗过后,MASK框边缘处会消耗较大,常需要更换,使用寿命降低,成本增加。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供了一种新型MASK框,降低了MASK边缘处消耗,同时再生使用时更容易矫正MASK框。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案得以实现:一种新型MASK框,包括MASK框本体,所述MASK框本体相邻两侧边垂直设置,所述MASK框本体包括外层边框和内层边框,所述外层边框和内层边框之间采用组合拼接的方式,所述外层边框为钛材质,所述内层边框为铝合金材质。

进一步的,所述MASK框本体为分割型框,由若干单个部分框体组装而成,其中在组装处一侧的正梯形部分和另一侧的倒梯形部分拼接,形成方形结构。

进一步的,所述组装处留有应力槽。

进一步的,所述应力槽的槽宽介于4-6mm之间。

进一步的,所述应力槽的槽宽为6mm。

进一步的,其中一对平行设置的所述外层边框上设有方形缺口,方形缺口处设有安装条,安装条与外层边框相连,安装条两侧设有螺孔,可配合承重螺栓固定MASK框。

进一步的,所述安装条高度低于外层边框高度。

进一步的,所述内层边框下部设有内层边框支架,内层边框支架与内层边框垂直,内层边框支架上设有若干通孔,可配合带通分孔内六角低压头螺栓来固定基板。

本实用新型的有益效果是:1.通过应力槽来降低MASK框内应力,使得整体变形量降低,再生使用时更容易矫正;2内层边框采用钛材质,可降低MASK框边缘消耗,同时外层边框仍采用铝合金材质,降低成本。

附图说明:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的应力槽的示意图;

图3是本实用新型的方形缺口的示意图;

图4是本实用新型的局部放大图;

图中:1MASK框本体、2外层边框、3内层边框、4方形缺口、5内层边框支架、6应力槽、7正梯形部分、8倒梯形部分、9安装条、10螺孔、11通孔。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的描述。

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