[实用新型]自流搅拌通道、污水处理装置和系统有效
| 申请号： | 201921441805.4 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN210915624U | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 郑恩阳 | 申请（专利权）人： | 上海德宝密封件有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C02F1/00 |
| 代理公司： | 北京卓唐知识产权代理有限公司 11541 | 代理人： | 唐海力 |
| 地址： | 200444 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 自流 搅拌 通道 污水处理 装置 系统 | ||
1.一种自流搅拌通道，其特征在于，包括：用于流动污水和化学药剂的搅拌通道和多排撞击块，所述多排撞击块中每排撞击块至少包括一个撞击块；
所述搅拌通道包括用于连通污水来源的污水进口和用于连通污水沉淀池的污水出口，所述多排撞击块均固定在所述搅拌通道中，且所述多排撞击块包括的每排撞击块依次沿所述污水进口向所述污水出口方向分布排列。
2.根据权利要求1所述的自流搅拌通道，其特征在于，所述多排撞击块均固定在所述搅拌通道的底壁上。
3.根据权利要求2所述的自流搅拌通道，其特征在于，所述多排撞击块包括的任意两排撞击块之间均平行设置。
4.根据权利要求3所述的自流搅拌通道，其特征在于，所述每排撞击块中包括的任意两个相邻撞击块之间均设有扰流间隙；
所述每排撞击块中包括的每个所述扰流间隙均对应相邻排撞击块中的一个撞击块，且每个所述扰流间隙与对应的所述撞击块对齐。
5.根据权利要求4所述的自流搅拌通道，其特征在于，所述每排撞击块中包括的每个所述扰流间隙的宽度均相等。
6.根据权利要求5所述的自流搅拌通道，其特征在于，所述多排撞击块包括的任意两排撞击块之间的距离均相等。
7.根据权利要求2所述的自流搅拌通道，其特征在于，每个所述撞击块均包括一个倾斜面，且所述倾斜面朝向与所述搅拌通道中水流方向相反的方向。
8.根据权利要求1所述的自流搅拌通道，其特征在于，所述搅拌通道包括化学药剂投放口，且所述化学药剂投放口位于所述污水进口和所述撞击块之间。
9.一种污水处理装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的自流搅拌通道。
10.一种污水处理系统，其特征在于，包括如权利要求9所述的污水处理装置。
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