[实用新型]一种ITO透明导电玻璃

说明书

本实用新型公开了一种ITO透明导电玻璃,包括依次层叠的基层玻璃、第一高折射率层、第一低折射率层、ITO层、第二高折射率层、第二低折射率层；所述第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层的厚度可根据所述ITO层的厚度来调节；本实用新型涉及导电玻璃技术领域，ITO层两边都设有高低折射率层的组合方式能够减少光的反射提高透过率并减轻ITO层的颜色影响，提升视觉效果，具有很大的推广价值。

技术领域

本实用新型涉及导电玻璃技术领域，具体的说涉及一种ITO透明导电玻璃。

背景技术

ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的，ITO导电玻璃广泛应用于液晶显示器和透明线路板，这种应用于液晶显示器和透明线路板的ITO导电玻璃电阻一般很小，小电阻的ITO厚度往往比较厚，使得ITO层透过率变低，屏幕亮度变低，严重影响显示效果。

目前，一般制作ITO导电玻璃的方法是在基层玻璃镀ITO之前镀上一层二氧化硅阻挡层，虽然二氧化硅阻挡层的透过率比较高，但是ITO层与二氧化硅阻挡层的透过率差别比较明显，所以这种工艺并不能解决上述小电阻ITO透过率低的问题。

实用新型内容

针对现有技术中的不足，本实用新型要解决的技术问题在于提供了一种小电阻ITO，仍然能达到比较高透过率的透明导电玻璃。

为解决上述技术问题，本实用新型通过以下方案来实现：一种ITO透明导电玻璃包括依次层叠的基层玻璃、第一高折射率层、第一低折射率层、ITO层、第二高折射率层、第二低折射率层。

进一步的，所述基层玻璃为普通透明玻璃，厚度为0.2～2mm。

进一步的，所述第一高折射率的材料为氧化铌或氧化钛或氧化锆或氧化铪或氧化钽，层厚度为10nm～150nm，折射率为2～2.7。

进一步的，所述第一低折射率层的材料为氟化镁或氟化镧或氟化钇或氟化钡，厚度为10nm～150nm，折射率为1.38～1.6。

进一步的，所述ITO层为氧化铟锡膜，厚度为800Å～2700Å，所述ITO层的电阻小于10Ω。

进一步的，所述第二高折射率层的材料为氧化铌或氧化钛或氧化锆或氧化铪或氧化钽，厚度为10nm～150nm，折射率为2～2.7。

进一步的，所述第二低折射率层的材料为氟化镁或氟化镧或氟化钇或氟化钡，厚度为10nm～150nm，折射率为1.38～1.6。

进一步的，所述第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层的厚度可根据所述ITO层的厚度来调节。

相对于现有技术，本实用新型的有益效果在于：

1.ITO层设置于高低折射率层中间，可以根据ITO膜的厚度来调节高低折射率层的厚度，从而减少光射向玻璃产生的大量反射，保证ITO厚度在一定范围内有较高的透过率，这种方式对电阻小、厚度大的ITO膜提高透过率有明显的效果。

2.ITO层两边都设有高低折射率层，通过这种匹配组合方式可以减轻ITO层颜色的影响，折射光产生干涉作用，增加玻璃的透明度，增强视觉效果。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型另一种结构示意图。

附图中，1、基层玻璃，2、第一高折射率层，3、第一低折射率层，4、ITO层， 5、第二高折射率层，6、第二低折射率层。

具体实施方式