[实用新型]一种高精度全自动双面曝光机

说明书

本实用新型涉及一种高精度全自动双面曝光机，其包括机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；机械手系统；视觉系统；曝光模块；恒温恒湿模块；控制系统。本实用新型通过对准系统和视觉系统实现双面曝光机上下掩膜版的对准，能够防止曝光时图案错位，提高曝光质量，通过对准单元能够完成多方向和角度的调整，对准精度高。

技术领域

本实用新型属于曝光机技术领域，尤其涉及一种高精度全自动双面曝光机。

背景技术

紫外线曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备，曝光机具有单面曝光机和双面曝光机。

中国专利CN106547174B公开了一种全自动双面曝光机包括机台，于同一轴线上依次设置入料区、第一面曝光区、转移翻板区、第二面曝光区以及出料区；其设有进料转移机构，第一曝光机构，转移翻板机构，跨设于转移翻板区域第一面曝光区上方，并将完成第一面曝光的板件由第一面曝光区移载至转移翻板区，并将完成第一面曝光的板件由第一面翻转至第二面，出料转移机构，第二曝光机构，通过将第一面曝光区和第二面曝光区横向设置，可以有效的减少双面自动曝光机的长度，且可以通过横向移动第一曝光平台或第二曝光平台实现曝光的操作。

中国专利CN108255029A公开了一种双面曝光机及其曝光方法，包括第一曝光机构、第二曝光机构和翻转机构，所述第一曝光机构包括第一曝光装置和滑动设置于第一曝光装置下方的第一曝光平台，所述第一曝光平台设置有第一摄像对位装置，所述第二曝光机构包括第二曝光装置和滑动设置于第二曝光装置下方的第二曝光平台，所述第二曝光平台设置有第二摄像对位装置。

上述两个实用新型专利中的双面曝光机均通过工件的翻转实现双面曝光，而且每次曝光必须要翻转，工作程序冗杂，效率低下。同时采用翻转机构必然导致设备体积增大，而且对于曝光图案与工件上下两个面的对准控制精度不高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对上述缺陷，提供一种自动化程度高、效率高，曝光精确的高精度全自动双面曝光机。

为了达到目的，本实用新型提供的技术方案为：

本实用新型涉及的一种高精度全自动双面曝光机，其包括

机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；

上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；

对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；

进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；

机械手系统，设于进出料系统上方，用于将待曝光的产品从进料系统中搬运到对准系统上，将曝光完成的产品搬运到出料系统中；

视觉系统，位于对准系统下方，为对准系统提供对准所需的位移量；

曝光模块，包括上曝光模块和下曝光模块，上曝光模块安装在上框系统的上方，为产品上表面曝光提供光源，下曝光模块设于对准系统下方，为产品下表面曝光提供光源；

恒温恒湿模块，安装在机架上，控制曝光机内的温度和湿度；

控制系统，用于控制上框系统、对准系统、进出料系统、机械手系统、视觉系统、曝光模块和恒温恒湿模块的协调运行。