[实用新型]成像薄膜及电子设备壳体

权利要求书

1.一种成像薄膜，其特征在于，包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层，所述图文层包括多个微图文；

所述微图文通过镀膜方式形成，且所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像。

2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米。

3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凹槽结构，所述凹槽结构填充有填充物，所述填充物通过镀膜方式填充于所述凹槽结构中。

4.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凸起结构，所述凸起结构通过镀膜方式形成。

5.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文的表面设置有镀膜层。

6.根据权利要求5所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凹槽结构和/或凸起结构，所述凹槽结构的内表面和/或所述凸起结构的外表面设置有所述镀膜层。

7.根据权利要求6所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽结构填充有填充物，所述填充物的外表面设置有所述镀膜层。

8.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，每个所述微图文存在渐变和/或多个所述微图文在所述图文层中的分布存在渐变。

9.根据权利要求6所述的成像薄膜，其特征在于，每个所述微图文的所述镀膜层存在渐变和/或多个所述微图文的所述镀膜层在所述图文层中的分布存在渐变。

10.根据权利要求8或9所述的成像薄膜，其特征在于，所述渐变的种类包括颜色的渐变、灰度的渐变、透过率的渐变、反射率的渐变和明暗的渐变中的一种或几种。

11.根据权利要求1-9中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦层具有多个聚焦单元，所述聚焦单元与所述微图文相适配。

12.根据权利要求11所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦单元为柱面镜、微透镜和菲涅尔透镜中的一种或几种。

13.根据权利要求11所述的成像薄膜，其特征在于，相邻两个所述聚焦单元之间为无间隔设置或有间隔设置。

14.根据权利要求1-9中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

15.根据权利要求1-9中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述本体还包括间隔层，所述聚焦层和所述图文层分别设置于所述间隔层的两侧。

16.根据权利要求15所述的成像薄膜，其特征在于，所述间隔层和所述聚焦层分别采用一种或多种聚合物制成，所述间隔层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

17.一种电子设备壳体，其特征在于，包括基层和粘结于所述基层上的成像薄膜，所述成像薄膜为如权利要求1-16任一项所述的成像薄膜；

所述成像薄膜还包括设置于所述聚焦层上的反射层、设置于所述反射层上的着色层和设置于所述图文层上的粘胶层；

所述成像薄膜通过所述粘胶层粘结于所述基层上。