[实用新型]一种新型工艺瓷的抛光装置有效

专利信息
申请号: 201921393527.X 申请日: 2019-08-26
公开(公告)号: CN210704193U 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 郭翔;张淑苑;郭志光;田文聪 申请(专利权)人: 大埔县汇丰源陶瓷工艺有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B55/06
代理公司: 北京久维律师事务所 11582 代理人: 邢江峰
地址: 514200 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 工艺 抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种新型工艺瓷的抛光装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)内部设置有驱动电机(2),所述驱动电机(2)通过皮带(3)连接有旋转轴(4),所述旋转轴(4)上端连接有抛光磨盘(5),所述抛光磨盘(5)上端通过螺栓(6)固定有抛光头(7),所述抛光磨盘(5)外围设置有防溅凸起(8),所述防溅凸起(8)内侧设置有环形沟槽(9),所述环形沟槽(9)下端连接有吸尘器(10),所述底座(1)侧面上设置有滑动轨道(11),所述滑动轨道(11)内部设置有滑动块(12),所述滑动块(12)上端连接有驱动气缸(13),所述滑动块(12)通过连接杆(14)连接有陶瓷夹具(15),所述陶瓷夹具(15)外围设置有喷淋头(16),所述喷淋头(16)上端连接有进水接口(17),所述底座(1)上端设置有集尘凹槽(18),所述集尘凹槽(18)上设置有排渣口(19)。

2.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置,其特征在于:所述旋转轴(4)下端设置有滚珠轴承(20)。

3.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置,其特征在于:所述陶瓷夹具(15)内设置有防护垫层(21),所述防护垫层(21)采用硅橡胶材料制成。

4.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置,其特征在于:所述防溅凸起(8)与集尘凹槽(18)之间为锥面型结构。

5.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置,其特征在于:所述排渣口(19)下端设置有残渣收集桶(22)。

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