[实用新型]一种电磁屏蔽结构有效

专利信息
申请号: 201921391423.5 申请日: 2019-08-26
公开(公告)号: CN210537247U 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 陶益杰 申请(专利权)人: 上海戎科特种装备有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;B32B15/02;B32B15/14;B32B5/08;B32B5/18;B32B5/24;B32B33/00
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 邱轶
地址: 201414 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电磁 屏蔽 结构
【权利要求书】:

1.一种电磁屏蔽结构,其特征在于,所述电磁屏蔽结构包括叠置的导电布层和多层交叠结构层,所述多层交叠结构层的上表面固定连接在所述导电布层的下表面上;

所述多层交叠结构层包括若干吸收材料层和若干电阻型周期结构层,吸收材料层与电阻型周期结构层交替层叠在一起;所述多层交叠结构层的上表面和下表面均为电阻型周期结构层,且多层交叠结构层内的若干电阻型周期结构层自上而下方阻逐渐减小。

2.如权利要求1所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述导电布层为双层结构,包括金属纤维混纺基布和导电镀层;所述导电镀层为金属镍或铜的镀层,所述镀层厚度为纳米级;所述导电布层的厚度为0.5~1.5mm,方阻为0.01~0.1Ω/□。

3.如权利要求1所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述吸收材料层为含碳粉的泡沫层,所述含碳粉的泡沫层主要由碳浆与聚氨酯发泡而成;所述吸收材料层的厚度为2~10mm,方阻为500~3000Ω/□。

4.如权利要求1或3所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述电磁屏蔽结构中吸收材料层的层数在5层以下。

5.如权利要求1所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述电阻型周期结构层为三种方阻不同的周期性容性频率选择表面中的一种;所述周期性容性频率选择表面由轻质基布和导电碳浆通过丝网印刷方式制得。

6.如权利要求5所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,三种方阻不同的周期性容性频率选择表面分别为:

方阻为500~1000Ω/□的周期性容性频率选择表面;

方阻为200~300Ω/□的周期性容性频率选择表面;

方阻为50~300Ω/□的周期性容性频率选择表面。

7.如权利要求5或6所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述周期性容性频率选择表面由若干几何图形有序排列而成;所述几何图形为表面涂覆了导电碳浆的轻质基布;所述导电碳浆主要包括树脂和碳粉,所述碳粉含量为20~50%,树脂含量为30~50%。

8.如权利要求1所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述多层交叠结构层的上表面的若干几何图形为边长为5~10mm的正方形,任一两个所述几何图形间的间隙为5~10mm,分布在轻质基布边缘的几何图形与轻质基布边缘的间距为2~5mm;下表面的若干几何图形为边长为15~25mm的正方形,任一两个所述几何图形间的间隙为1~4mm,分布在轻质基布边缘的几何图形与轻质基布边缘的间距为1~2mm。

9.如权利要求1或8所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述多层交叠结构层的上表面电阻型周期结构层方阻为500~1000Ω/□,中间层电阻型周期结构层方阻为200~300Ω/□,下表面电阻型周期结构层方阻为50~300Ω/□。

10.如权利要求1所述的电磁屏蔽结构,其特征在于,所述电磁屏蔽结构的总厚度为5~20mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海戎科特种装备有限公司,未经上海戎科特种装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921391423.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top