[实用新型]一种LPCVD系统法兰炉门

权利要求书

1.一种LPCVD系统法兰炉门，包括连接壁（1）和活动炉门（6），其特征在于：所述活动炉门（6）位于连接壁（1）的一侧，所述连接壁（1）四周开设有开孔（2），所述连接壁（1）靠近正面的一侧外壁上固定安装有第一连接块（3），所述活动炉门（6）的一侧固定连接有第二连接块（5），所述第一连接块（3）和第二连接块（5）之间活动连接有活动转轴（4），所述活动炉门（6）靠近正面的一侧固定安装有卡槽（7），所述连接壁（1）靠近正面的一侧固定安装有位于卡槽（7）一侧的固定块（8），所述固定块（8）靠近正面的一侧活动安装有活动块（9），所述活动块（9）的底部固定连接有转动把手（11），所述活动块（9）的顶部固定安装有卡块（10），所述活动炉门（6）的内部开设有排气口（12），所述活动炉门（6）靠近正面的一侧固定安装有位于排气口（12）上方的控制面板（13），所述活动炉门（6）靠近正面的一侧固定安装有位于控制面板（13）上方的储气箱（14），所述储气箱（14）的一侧活动连接有石英管（15），所述石英管（15）远离储气箱（14）的一端固定连接有出气头（16），所述活动炉门（6）的一侧外壁上固定安装有基板（18），所述基板（18）的一侧固定连接有加热块（17），所述活动炉门（6）的一侧外壁上开设有第一开槽（19），所述第一开槽（19）的上下两侧内壁上开设有第二开槽（20），所述第一开槽（19）远离基板（18）的一侧内壁上开设有第三开槽（21），所述第二开槽（20）的一侧活动连接有移动块（22），所述移动块（22）远离第三开槽（21）的一侧固定连接有压块（23）。

2.根据权利要求1所述的一种LPCVD系统法兰炉门，其特征在于：所述移动块（22）一侧外壁与第三开槽（21）之间活动安装有弹簧。

3.根据权利要求1所述的一种LPCVD系统法兰炉门，其特征在于：所述第一开槽（19）位于基板（18）一侧，且第一开槽（19）也位于加热块（17）的一侧。

4.根据权利要求1所述的一种LPCVD系统法兰炉门，其特征在于：所述连接壁（1）的内部开设有凹槽，且该凹槽与活动炉门（6）一侧基板（18）互相卡接。

5.根据权利要求1所述的一种LPCVD系统法兰炉门，其特征在于：所述第一连接块（3）和第二连接块（5）的内部开设有通口，且活动转轴（4）与该通口活动连接。

6.根据权利要求1所述的一种LPCVD系统法兰炉门，其特征在于：所述卡槽（7）的内部设置有弧形凹槽，且卡块（10）与卡槽（7）内部互相凹槽互相卡接。