[实用新型]一种新型动态胚胎培养皿

权利要求书

1.一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：包括第一器皿体(100)，所述第一器皿体(100)内部的底端固定设置有随着所述第一器皿体(100)摆动而不断晃动的波动块(101)，所述波动块(101)的上端面低于所述第一器皿体(100)的上端面。

2.根据权利要求1所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：所述波动块(101)包括设置于所述第一器皿体(100)底部的主体波动块(101a)和若干设置于所述主体波动块(101a)上方的固定波动块(101b)，若干所述固定波动块(101b)围绕一中空区域四散设置。

3.根据权利要求2所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：所述主体波动块(101a)的上平面与所述第一器皿体(100)上端面面积相等且平行，若干所述固定波动块(101b)均匀设置于所述主体波动块(101a)上平面，且围绕形成的中空区域的中心与所述主体波动块(101a)上平面的中心连线垂直于所述主体波动块(101a)上平面。

4.根据权利要求1所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：还包括第二器皿体(200)，所述第二器皿体(200)上设置有完整放置所述第一器皿体(100)的凹槽(201)。

5.根据权利要求4所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：所述第一器皿体(100)放置在所述凹槽(201)后，所述第一器皿体(100)的上端面高于所述第二器皿体(200)内部的底面，且低于所述第二器皿体(200)的上端面，所述第一器皿体(100)外部的底面高于所述第二器皿体(200)外部的底面，且低于所述第二器皿体(200)内部的底面。

6.根据权利要求5所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：所述第二器皿体(200)中设置有多个放置所述第一器皿体(100)的所述凹槽(201)，所述凹槽(201)表面和所述第一器皿体(100)外表面上均对应设置有相互吸引的吸附组件。

7.根据权利要求6所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：多个所述凹槽(201)呈环状均匀分布，且配置有对应的标号。

8.根据权利要求6所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：所述吸附组件为磁铁组。

9.根据权利要求1所述的一种新型动态胚胎培养皿，其特征在于：所述波动块(101)为具有波动力的硅胶囊。