[实用新型]介质滤波器有效

专利信息
申请号: 201921333274.7 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN210607545U 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 陈荣达;陈国峰 申请(专利权)人: 苏州艾福电子通讯股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P1/207
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 韩凤
地址: 215129 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 介质 滤波器
【权利要求书】:

1.一种介质滤波器,其特征在于,所述介质滤波器包括:本体、设置于所述本体上的负耦合结构和谐振腔;

所述本体具有顶面和底面,所述负耦合结构包括:开设于所述本体底面上的底部盲槽、开设于所述盲槽中的通孔、形成于所述本体底面上并沿所述底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于所述本体顶面的顶部盲槽,所述底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,所述底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与所述介质滤波器的滤波带宽呈反比,所述谐振腔分布于所述负耦合结构的两侧,任一所述谐振腔自所述本体的顶面延伸至所述本体的中部。

2.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述本体为表面附有金属镀层的陶瓷介质本体。

3.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述底部盲槽为一开设于所述本体底面上的腰形槽,所述顶部盲槽为一开设于所述本体顶面上的矩形槽。

4.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述通孔为两个,两个通孔开设在所述底部盲槽的底面,并延伸至所述顶部盲槽的底面,一个通孔靠近所述底部盲槽的一端设置,另一个通孔靠近所述底部盲槽的另一端设置。

5.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述凹槽为通过激光刻蚀作用形成的激光槽。

6.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述谐振腔沿所述底部盲槽和底部盲槽的长度方向,对称地分布于所述底部盲槽的两端。

7.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述底部盲槽的面积小于顶部盲槽的面积。

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