[实用新型]一种高通量分立掩膜装置有效
| 申请号： | 201921274601.6 | 申请日： | 2019-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN210287480U | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 余应明;郭鸿杰;鲁森钱 | 申请（专利权）人： | 宁波星河材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 徐迅;唐雪娇 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波市宁波高*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 通量 分立 装置 | ||
1.一种高通量分立掩膜装置，其特征在于，包括：
基片托架，用于放置基片，所述基片托架通过基片托架升降电机和基片托架旋转电机控制升降和旋转；
掩膜机械臂，所述掩膜机械臂通过掩膜机械臂旋转电机控制旋转；
掩膜支架，用于放置掩膜片，所述掩膜支架通过掩膜支架升降电机控制升降；
所述基片托架，掩膜机械臂和掩膜支架依次置于一个真空腔体内，所述掩膜机械臂在掩膜支架和基片托架之间转动取放掩膜。
2.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜机械臂旋转电机中心到基片托架旋转电机中心的距离，与所述掩膜机械臂旋转电机中心到掩膜支架中心的距离相等。
3.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜支架还包括一个XY运动平台，用于调节掩膜支架的中心位置。
4.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述基片托架还包括一个XY运动平台，用于调节基片托架的位置。
5.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜机械臂径向可以调节。
6.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述真空腔体外部设有水平和角度调节装置，用于调节基片托架、掩膜机械臂及掩膜支架的水平和角度。
7.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述基片托架、掩膜机械臂及掩膜支架集成在一个法兰上。
8.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜支架底部具有隔离罩。
9.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜机械臂上具有2-4个定位销孔。
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