[实用新型]一种膜设备清洗系统

权利要求书

1.一种膜设备清洗系统，其特征在于，包括：

清洗容器，用于盛放清洗液；

一段膜元件，所述一段膜元件具有第一进水端、第一出水端以及第二出水端；

第一清洗泵，一端与所述清洗容器连接，另一端与所述第一进水端连接；

第二清洗泵，一端与所述清洗容器连接，另一端与所述第一出水端连接；

第一阀门，设置在所述第一清洗泵输送清洗液至所述一段膜元件的第一进水端的管道上；

第二阀门，设置在回流所述一段膜元件的第一进水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上；

第三阀门，设置在所述第二清洗泵输送清洗液至与所述一段膜元件的第一出水端的管道上；

第四阀门，设置在回流所述一段膜元件的第一出水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上；

第五阀门，设置在回流所述一段膜元件的第二出水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上；

第六阀门，设置在所述一段膜元件的第一出水端至所述清洗容器以外的管道上，用于排出所述一段膜元件内的清洗液；

第七阀门，设置在所述一段膜元件的第二出水端至所述清洗容器以外的管道上，用于排出所述一段膜元件内的清洗液。

2.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，还包括：PH计，设置在所述第五阀门与所述清洗容器之间，用于检测清洗液的PH值。

3.一种膜设备清洗系统，其特征在于，包括：

清洗容器，用于盛放清洗液；

一段膜元件，所述一段膜元件具有第一进水端、第一出水端以及第二出水端；

二段膜元件，所述二段膜元件具有第二进水端、第三出水端以及第四出水端，所述一段膜元件的第一出水端连接到所述二段膜元件的第二进水端；

第十阀门以及第一阀门，依次设置在第一清洗泵输送清洗液至所述一段膜元件的第一进水端的管道上；

第二阀门以及第八阀门，依次设置在回流所述二段膜元件的第二进水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上；

第三阀门，设置在所述一段膜元件的第一出水端输送清洗液至所述二段膜元件的第二进水端的管道上；

第四阀门，设置在回流所述一段膜元件的第一出水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上；

第五阀门以及第十三阀门，依次设置在回流所述二段膜元件的第四出水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上；

第六阀门以及第十四阀门，依次设置在所述一段膜元件的第二出水端至所述清洗容器以外的管道上，用于排出所述一段膜元件内的清洗液，其中，所述第六阀门连接所述第十三阀门，用于回流所述一段膜元件的第二出水端排出的清洗液至所述清洗容器；

第七阀门以及第四阀门，依次设置在第二清洗泵输送清洗液至与所述一段膜元件的第一出水端的管道上；

第九阀门，设置在所述第二清洗泵输送清洗液至与所述二段膜元件的第三出水端的管道上；

第十一阀门，设置在所述二段膜元件的第三出水端至所述清洗容器以外的管道上，用于排出所述二段膜元件内的清洗液；

第十二阀门，设置在回流所述二段膜元件的第三出水端排出的清洗液至所述清洗容器的管道上。

4.根据权利要求1或3所述的清洗系统，其特征在于，所述第一清洗泵以及所述第二清洗泵均为变频清洗泵，以脉动方式导入清洗液。

5.根据权利要求1或3所述的清洗系统，其特征在于，所述清洗液为柠檬酸溶液、氢氧化钠溶液或纯净水。

6.根据权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，还包括：PH计，设置在所述第八阀门与所述清洗容器之间，用于检测清洗液的PH值。