[实用新型]一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖有效
| 申请号： | 201921251782.0 | 申请日： | 2019-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN210659053U | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 郭卫兵 | 申请（专利权）人： | 广东卫兵软件科技有限公司 |
| 主分类号： | E04F13/075 | 分类号： | E04F13/075;E04F15/08;E04F15/18 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 郑自群 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 负离子 清洁 抗菌 陶瓷砖 | ||
【权利要求书】：
1.一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：包括陶瓷本体，所述陶瓷本体的上表面设有一层釉面层，在所述釉面层的表面设有一层电气石负离子层，在所述电气石负离子层上设有抗菌层，所述抗菌层由多层纳米TiO2抗菌层、银系抗菌剂层间隔分布设置构成。
2.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述电气石负离子层的厚度为10-15μm。
3.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述抗菌层为4-8层。
4.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述纳米TiO2抗菌层的厚度为2-6μm。
5.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述银系抗菌剂层为载银磷酸锆抗菌剂。
6.根据权利要求5所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述银系抗菌剂层的厚度为3-4μm。
7.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述釉面层的厚度为30-35μm。
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