[实用新型]直立运输托盘的镀膜设备

说明书

本实用新型公开了直立运输托盘的镀膜设备，包括：用于放置基板的托盘和运送托盘的传输轨道，传输轨道具有直立运输段，直立运输段至少有一侧设置有镀膜组，镀膜组由从上至下排列的至少两个镀膜装置构成；直立运输段运送托盘时，托盘与垂直面存在夹角θ，镀膜组给托盘中的基板投射镀膜。本实用新型具有镀膜效率高、膜厚均匀等优点。

技术领域

本实用新型涉及基板镀膜技术领域，尤其涉及直立运输托盘的镀膜设备。

背景技术

使用反应式等离子体镀膜（Reactive Plasma Deposition, RPD）技术，其原理是使用高密度低能量的电子束来升华材料表面的原子产生游离，在衬底即基板上形成一层致密的薄膜，而在使用适当的靶材原料，所生成的薄膜可以具有较高透明度与较高的导电性，适合许多需要透明导电（Transparent Conductive Oxide, TCO）薄膜应用的产业。

基于熔化靶材表面做升华，RPD镀膜的操作基本上是朝上方投射镀膜，而被镀基板(如硅片等)多半是被承载于托盘的口袋或架子上，基板裸露朝下的背面能被镀上薄膜，但基板的被镀面会被支撑的边缘或吊钩造成遮蔽，因此无法满镀于基板的整个板面，其镀膜效果类似于旧式相片所留的白边。在一些应用场合，譬如太阳能电池的镀膜上，为了争取更大的镀膜面积以增加阳光的接收面积与相对增加光电转换效率，必须避免被镀面有边缘或吊钩遮蔽的情况。而由于镀膜腔靶材供应系统设计限制，无法将RPD设备悬吊起来，即采用炉口朝下的方式镀膜，因此无法对平躺的基板表面做无遮荫的镀膜。

因此，如何设计薄膜均匀、效率高的镀膜设备是业界亟待解决的技术问题。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在薄膜不均匀、效率低的缺陷，本实用新型提出了直立运输托盘的镀膜设备。

本实用新型采用的技术方案是，设计直立运输托盘的镀膜设备，包括：用于放置基板的托盘和运送托盘的传输轨道，传输轨道具有直立运输段，直立运输段至少有一侧设置有镀膜组，镀膜组由从上至下排列的至少两个镀膜装置构成；直立运输段运送托盘时，托盘与垂直面存在夹角θ，镀膜组给托盘中的基板投射镀膜。

优选的，基板在运送过程中会出现与镀膜装置所在高度相同的有效镀膜区，镀膜装置的炉口在水平方向上到其对应有效镀膜区的距离为镀膜距离；同一镀膜组中所有镀膜装置的镀膜距离相同。

优选的，当θ=0°时，镀膜组中所有镀膜装置的炉口上下对齐；当0°＜θ＜90°时，镀膜组中所有镀膜装置的炉口沿平行于基板的倾斜方向依次错开摆放。

优选的，直立运输段的两侧均设有镀膜组；直立运输段一侧的镀膜组给基板的正面投射镀膜，直立运输段另一侧的镀膜组给基板的背面投射镀膜。

优选的，直立运输段两侧的镀膜组同时给基板镀膜。

优选的，直立运输段两侧的镀膜组先后给基板镀膜。

优选的，镀膜装置的炉口沿水平方向投射镀膜或与水平面呈夹角倾斜投射镀膜。

优选的，托盘上排列有与基板形状配合的镂空槽，直立运输段运送托盘时，基板依靠重力定位在镂空槽内。

优选的，θ的范围为10°至89°。

与现有技术相比，本实用新型采用直立运输段运送托盘，并在直立运输段的至少一侧配置镀膜组，镀膜组由从上至下排列的至少两个镀膜装置构成，通过设置上下排列的镀膜装置以对更宽幅面的托盘进行均匀镀膜，越宽的托盘能承载更多的基板数，有效增加镀膜设备的产量。更关键的是，同一镀膜组中镀膜装置到基板的镀膜距离相同，使得上下镀膜装置对基板的镀膜速度差异减小，基板上的膜厚更均匀。

附图说明

下面结合实施例和附图对本实用新型进行详细说明，其中：