[实用新型]一种石墨烯薄膜表面清洁装置有效

专利信息
申请号: 201921234840.9 申请日: 2019-08-01
公开(公告)号: CN210449961U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 杨雪静 申请(专利权)人: 山东恒力天能新技术科技有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B1/04
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 李枝玲
地址: 274000 山东省菏*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 薄膜 表面 清洁 装置
【说明书】:

实用新型涉及一种石墨烯薄膜表面清洁装置,包括两个倒置的C形架,两个C形架之间设有一夹角,两个C形架上方两侧分别设有连接杆一和连接杆二,连接杆一和连接杆二分别交错设置,两侧的连接杆一和连接杆二之间设有横杆,C形架相对两侧内壁分别设有转槽,两个转槽之间转动设有清洁辊,清洁辊外部包裹有清洁海绵,其中一个清洁辊上方设有滴水管,滴水管下方均匀设有若干个滴水嘴,滴水管上方连通设有连接管,连接管上端设有水槽,C形架上方外部设有提杆,提杆下方设有堵水杆,堵水杆下端设有与连接管相配合的堵头,提杆一侧的C形架上设有加水口。本实用新型与现有技术相比优点在于:结构合理,更加的方便,清洁效率更高。

技术领域

本实用新型涉及石墨烯薄膜技术领域,特别涉及一种石墨烯薄膜表面清洁装置。

背景技术

石墨烯是一种具有特殊结构和性质的新型纳米材料。因其具有超高的强度和硬度、极高的载流子迁移率、优异的室温热导率、良好的透光率和导电率等特性,在透明导电薄膜、锂离子电池、超级电容器、功能复合材料等诸多领域都具有广泛的应用前景。目前制备石墨烯的主要方法有机械剥离法、氧化还原法、化学气相沉积法、外延生长法等,其中化学气相沉积法是制备大面积高质量石墨烯薄膜的重要方法。

在石墨烯薄膜生产,进行使用后,长时间的放置容易在石墨烯薄膜上产生灰尘,因此当再次使用时就需要对石墨烯薄膜表面进行清洁,现有的方式都是人工将利用清洁用品,将石墨烯薄膜表面进行清洁,而在清洁过程中,都需要打好水,利用清洁用具慢慢的清洁,擦完一遍后还需要挤出清洁用具上的水,并且需要频繁的更换水,工作繁琐,效率低,没有一个专门擦拭的器具。

实用新型内容

针对现有技术中的上述不足,本实用新型提供了一种石墨烯薄膜表面清洁装置,其结构合理,更加的方便,清洁效率更高。

为了达到上述实用新型目的,本实用新型采用的技术方案为:一种石墨烯薄膜表面清洁装置,包括两个倒置的C形架,两个所述C形架一侧相互固定,且之间设有一夹角,两个所述C形架上方两侧分别设有连接杆一和连接杆二,所述连接杆一和连接杆二分别交错设置,两侧的所述连接杆一和连接杆二之间设有横杆,所述C形架相对两侧内壁分别设有转槽,两个所述转槽之间转动设有清洁辊,所述清洁辊外部包裹有清洁海绵,其中一个所述清洁辊上方的C形架两侧内壁之间设有滴水管,所述滴水管下方均匀设有若干个滴水嘴,所述滴水管上方连通设有连接管,所述连接管上端设有水槽,所述水槽固定在C形架上方内壁上,所述C形架上方外部设有提杆,所述提杆下方设有堵水杆,所述堵水杆下端设有与连接管相配合的堵头,所述提杆一侧的C形架上设有加水口。

作为改进:所述横杆上套接设有海绵材质的手握套筒。

作为改进:所述提杆两侧下方与C形架上方外侧壁之间连接设有弹簧。

作为改进:所述水槽底部两侧为向下倾斜的结构。

本实用新型与现有技术相比优点在于:利用水槽填装清洁液,并利用滴水嘴将清洁液滴入清洁辊上,然后进行擦拭清洁,清洁后,利用另一个清洁辊将薄膜上的清洁液擦拭干净即可,更加的方便,清洁效率更高。

附图说明

图1为本实用新型一种石墨烯薄膜表面清洁装置的主视结构示意图;

图2为本实用新型一种石墨烯薄膜表面清洁装置其中一个C形架的结构示意图;

图3为本实用新型一种石墨烯薄膜表面清洁装置另一个C形架的结构示意图;

图4为本实用新型一种石墨烯薄膜表面清洁装置的俯视结构示意图;

附图标记对照表:

1-C形架、2-连接杆一、3-连接杆二、4-横杆、5-转槽、6-清洁辊、7-滴水管、8-滴水嘴、9-连接管、10-水槽、11-提杆、12-堵水杆、13-堵头、14-加水口、15-手握套筒、16-弹簧。

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