[实用新型]超低反低透双银低辐射镀膜玻璃

权利要求书

1.一种超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述超低反低透双银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板、层叠于所述玻璃基板表面的第一电介质膜层、层叠于所述第一电介质膜层表面的光学折射膜层、层叠于所述光学折射膜层表面的第二电介质膜层、层叠于所述第二电介质膜层表面的第一功能膜层、层叠于所述第一功能膜层表面的第一功能保护膜层、层叠于所述第一功能保护膜层表面的第三电介质膜层、层叠于所述第三电介质膜层表面的第二功能膜层、层叠于所述第二功能膜层表面的第二功能保护膜层以及层叠于所述第二功能保护膜层表面的第四电介质膜层。

2.如权利要求1所述的超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一功能膜层为银膜层、AgCu20膜层中的至少一种，厚度为5nm～8nm；所述第二功能膜层为银膜层、AgCu20膜层中的至少一种，厚度为10nm～15nm。

3.如权利要求1所述的超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质膜层为TiO_x膜层、SiO_x膜层、SiAlO_x膜层、SiAlN_x膜层、SiN_xO_y膜层、SiAlN_xO_y膜层中的至少一层，厚度为50nm～70nm，x、y表示不完全氧化或氮化。

4.如权利要求1～2任一所述的超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述光学折射膜层为NiCrN_x膜层、NiCrO_x膜层、NbN_x膜层、NbO_x膜层中的至少一层，厚度为2nm～8nm，x表示不完全氧化或氮化。

5.如权利要求1～2任一项所述的超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二电介质膜层为TiO_x膜层、SiOx膜层、SiAlOx膜层、SiAlNx膜层、SiN_xO_y膜层、SiAlN_xO_y膜层、ZnO_x膜层、ZnAlO_x膜层、ZnSnO_x膜层、SnO_x膜层中的至少一层，厚度为60nm～70nm，x，y表示不完全氧化或氮化。

6.如权利要求1所述的超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一功能保护膜层为Cr膜层、CrO_x膜层、CrN_x膜层、NiCrO_x膜层、NiCrN_x膜层、Nb膜层、NbO_x膜层、NbN_x膜层、Ti膜层、TiN_x膜层、TiO_x膜层、ZnO_x膜层、ZnAlO_x膜层中的至少一层，厚度为0.5nm～6nm，x表示不完全氧化或氮化；所述第二功能保护膜层为Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCrOx膜层、NiCrN_x膜层、Nb膜层、NbO_x膜层、NbN_x膜层、Ti膜层、TiN_x膜层、TiO_x膜层中的至少一层，厚度为0.5nm～6nm。

7.如权利要求1所述的超低反低透双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三电介质膜层为由TiO_x膜层、SiO_x膜层、SiAlO_x膜层、SiAlN_x膜层、SiN_xO_y膜层、SiAlN_xO_y膜层、ZnO_x膜层、ZnAlO_x膜层、ZnSnO_x膜层、SnO_x膜层中的至少一层，厚度为50nm～100nm，x、y表示不完全氧化或氮化。