[实用新型]玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架有效

专利信息
申请号: 201921227277.2 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN210314470U 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 余峰伟 申请(专利权)人: 天津格兰德科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市西青区西*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 立式 磁控溅射 镀膜 专用 工件
【权利要求书】:

1.玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架,其特征在于包括工件架主体、固定钢丝、支撑杆、限位缺口,所述工件架主体由横杆与纵杆构成,所述横杆与纵杆的数量分别为N个,N≥2,所述横杆与纵杆之间呈90°角固定连接,所述横杆与纵杆的前端面与后端面分别平齐,所述纵杆的上端、下端分别设有固定钢丝与支撑杆,所述支撑杆与纵杆垂直设置,所述支撑杆上设有限位缺口。

2.按照权利要求1所述的玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架,其特征在于所述固定钢丝为Y型结构,Y型结构的上端固定套在纵杆上,Y型结构的下端与纵杆呈一定角度设置。

3.按照权利要求2所述的玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架,其特征在于Y型结构的下端与纵杆所呈角度范围为15°至45°。

4.按照权利要求1所述的玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架,其特征在于所述限位缺口位于支撑杆远离纵杆的一端。

5.按照权利要求4所述的玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架,其特征在于所述限位缺口为三角形结构。

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